Séchage des wafer MEMS à l’aide de l’infrarouge : pourquoi c’est mieux que les anciens fours
Si vous souhaitez créer une usine de fabrication moderne et intelligente, vous ne pouvez pas continuer à utiliser ces vieux fours à convection. Ils sont simplement trop lents. Pour sécher les wafer des capteurs MEMS, nous utilisons désormais des systèmes à infrarouge à ondes courtes. Il s’agit avant tout de vitesse et de temps de réponse – des critères essentiels lorsque votre ligne de production est numérisée et fonctionne à grande vitesse.
Pourquoi l’infrarouge fonctionne si bien
L’avantage de l’infrarouge, c’est qu’il ne perd pas de temps à chauffer l’air autour du wafer. Il agit directement sur sa surface. C’est un énorme avantage, car cela évite que le reste du matériel ne surchauffe. De plus, puisque vous pouvez contrôler exactement la puissance, vous pouvez le connecter directement au PLC. Si l’épaisseur du wafer change ou si vous décidez d’accroître la vitesse de production, il suffit de ajuster la puissance en temps réel. Pas besoin d’attendre que l’air se réchauffe.
Les détails techniques
Nous concevons ces chauffages pour qu’ils puissent résister aux conditions extrêmes d’une salle propice. Nous utilisons des enveloppes en quartz de haute pureté, afin d’éviter que des contaminants ne endommagent vos capteurs. Nous cherchons également à obtenir une forte densité de puissance, ce qui signifie que le séchage peut se faire le plus rapidement possible.
Attention : veillez à votre alimentation électrique
Si la tension n’est pas adaptée à la lampe, celle-ci risque de se brûler très rapidement. De plus, ces tubes deviennent extrêmement chauds – non seulement au niveau du wafer, mais aussi aux extrémités des lampes. Utilisez des connecteurs et des câbles résistants à la chaleur, sinon vos terminaux vont fondre sous une charge constante. Ce n’est pas très agréable à voir.
Les compromis
L’infrarouge est effectivement rapide : jusqu’à 60 % plus rapide que l’air chaud. Mais il a un inconvénient : il est directionnel. Si le support du wafer n’est pas parfaitement centré, des zones froides apparaîtront. Il faut donc être très précis dans la conception du réflecteur, afin que la chaleur atteigne uniformément chaque partie du wafer.
Et comme ces systèmes sont très performants, ils exigent un entretien régulier pour éviter que les tubes en quartz ne soient souillés par des résidus ou des gaz. C’est un petit prix à payer pour obtenir cette vitesse.