Mengeringkan Wafer MEMS menggunakan Sinar Inframerah: Mengapa cara ini lebih baik daripada kaedah lama
Jika anda ingin membina fasiliti pengeluaran yang moden dan canggih, anda tidak boleh terus menggunakan kaedah pengeringan menggunakan oven konvensional yang lama. Kaedah tersebut sangat lambat. Untuk mengeringkan wafer sensor MEMS, kita menggunakan sistem sinar inframerah berfrekuensi tinggi. Ini kerana kelajuan dan masa tindak balas adalah faktor penting dalam proses pengeluaran yang berlangsung dengan cepat.
Mengapa sinar inframerah efektif
Ciri utama sinar inframerah ialah ia tidak membuang masa untuk memanaskan udara di sekitar wafer. Ia hanya memanaskan permukaan wafer secara langsung. Ini merupakan kelebihan besar, kerana ia dapat mengelakkan komponen lain daripada terlalu panas. Selain itu, kerana kuasa yang digunakan boleh dikawal dengan tepat, ia boleh disambung terus ke sistem PLC. Jika ketebalan wafer berubah atau anda ingin meningkatkan kelajuan pengeluaran, anda boleh menyesuaikan kuasa tersebut secara masa nyata. Tidak perlu menunggu udara panas untuk mencapai suhu yang diinginkan.
Butiran mengenai perkakasan yang digunakan
Kami membuat pemanas ini agar ia mampu bertahan dalam keadaan bilik bersih yang ketat. Kami menggunakan pembungkus kuarza berkualiti tinggi agar tidak ada kontaminan yang merosakkan sensor. Kami juga mengutamakan kepadatan tenaga yang tinggi, yang bermaksud proses pengeringan dapat dilakukan secepat mungkin.
Namun, perlu berhati-hati dengan sumber kuasa yang digunakan. Jika voltannya tidak sesuai dengan lampu tersebut, lampu tersebut akan cepat rosak. Selain itu, lampu ini akan menjadi sangat panas—bukan sahaja pada permukaan wafer, tetapi juga pada hujung lampu tersebut. Gunakan sambungan dan kabel yang tahan panas, agar terminalnya tidak meleleh akibat beban yang berterusan.
Kekurangan penggunaan sinar inframerah
Walaupun sinar inframerah sangat cepat—sekitar 60% lebih cepat daripada penggunaan udara panas—namun ia mempunyai kelemahan: ia hanya berfungsi secara tertentu. Jika rak wafer sedikit menyimpang dari posisi yang sepatutnya, akan timbul kawasan yang sejuk. Anda perlu memastikan geometri reflektor tepat agar haba dapat sampai ke setiap bahagian wafer dengan sama rata.
Oleh kerana sistem ini memerlukan prestasi yang tinggi, ia memerlukan penyelenggaraan yang rutin agar tiada sisa atau gas yang mengganggu proses pengeringan. Namun, ini merupakan harga yang kecil untuk mendapatkan kelajuan yang tinggi.