Di bahagian proses litografi, perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk mengubah kedudukan tepi saluran mikrofluidik sebanyak beberapa nanometer. Perubahan ini seterusnya akan menyebabkan penurunan kualiti produk yang dihasilkan. Kami telah mencipta lampu khusus untuk proses pembuatan peranti mikrofluidik ini, agar perubahan suhu dapat dikawal dari awal hingga akhir proses pengeluaran, sehingga profil fotorezist tetap memenuhi spesifikasi yang ditetapkan.
Berikut adalah faktor-faktor teknikal yang penting:
Lampu ini menggunakan unsur halogen berfrekuensi tinggi yang terletak di belakang kaca kuarsa, agar pemanasan dapat berlaku dengan cepat dan efisien. Sistem kawalan tertutup pula memastikan suhu di permukaan wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Lampu ini boleh digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, kerana sistem pemanasannya disegel dengan baik, sehingga penghasilan zarah-zarah kecil dapat diminimumkan. Repeatabiliti hasil penggunaan lampu ini sangat tinggi, dan profil fotorezist dapat dipindahkan dari satu alat ke alat lain tanpa perlu penyesuaian lagi. Penggunaan tenaga juga disesuaikan mengikut keperluan proses, bukan pada tahap maksimum, agar penggunaan tenaga tetap terkawal.
Mengapa cara ini berkesan dalam proses mikrofluidik?
Peranti mikrofluidik memerlukan dimensi saluran yang konsisten serta permukaan yang bebas daripada kecacatan. Lampu ini membantu menstabilkan proses pemanasan, sehingga dimensi saluran dapat dikawal dengan baik. Dengan cara ini, kawalan dimensi yang kritikal serta sudut dinding saluran dapat dijaga dengan baik. Kelebihannya ialah kurangnya keperluan untuk membaiki produk yang rosak, serta pengurangan sisa bahan yang tidak digunakan. Selain itu, kestabilan suhu juga membantu mencegah masalah seperti keruntuhan corak atau adanya “watermark” pada permukaan wafer setelah dicuci.
Beberapa perkara praktikal yang perlu diperhatikan:
Lampu ini direka untuk digunakan bersama-sama dengan alat pelapis/furnas yang sedia ada. Anda memerlukan sumber tenaga yang sesuai serta sistem penyaman udara yang efektif untuk memastikan suhu kekal stabil serta mematuhi standard bilik bersih. Proses penalaan lampu ini sangat mudah—cukuplah melaraskan nilai tetapan supaya ia sesuai dengan ciri-ciri fotorezist dan struktur permukaan wafer. Setelah diselaraskan, lampu ini akan berfungsi dengan baik tanpa perlu penyesuaian lanjut. Namun, jika ketebalan fotorezist atau tahap reflektiviti permukaan wafer berubah, anda perlu melakukan penalaan semula agar repeatabiliti tetap berada dalam lingkungan ±0.1°C.