
Waarom ophouden met het gebruiken van hete lucht? Een betere manier om wafers te drogen
Als je ooit in oudere productielijnen hebt gewerkt, weet je hoe het gaat. Er zijn enorme systemen die hete lucht over de wafers blazen, in de hoop dat het water zal verdampen. Het is een simpele oplossing, maar zeer traag.
Het probleem is dat lucht niet goed is in het overdragen van warmte. Je moet veel energie gebruiken om een hele ruimte op te warmen, alleen maar om een dunne laag water op het oppervlak van de wafer te drogen. Het is net alsof je probeert één bord te drogen door je hele keuken op te warmen.
Geen tussenstations meer nodig
Hier komt infraroodlicht om de hoek kijken. In plaats van de lucht op te warmen, bereikt het infraroodlicht direct de watermoleculen. We gebruiken korte-golflengte-infraroodlampen om de verdamping bijna onmiddellijk te bewerkstelligen. Hierdoor duurt het drogen slechts enkele seconden in plaats van minuten. Dat verandert helemaal de werkwijze.
Bovendien hoef je je geen zorgen te maken over ‘dode zones’ of vreemde luchtbewegingen die sommige plekken nog vochtig maken. Infraroodlicht zorgt voor een constante energiestroom over het hele oppervlak. En omdat er geen lucht wordt geblazen, gaan er geen stofdeeltjes of vuilresten terug op de schone wafers.
Meer snelheid, minder rommel
Het overstappen op infraroodlicht heeft niet alleen te maken met snelheid, maar ook met ruimtebesparing. Systemen die gebruikmaken van hete lucht zijn erg groot en vereisen veel apparatuur. Ze nemen veel te veel ruimte in beslag. Een infraroodarray daarentegen is compact en past gemakkelijk in de beschikbare ruimte.
Je elektriciteitsrekening zal je er ook dankbaar voor zijn. De lampen verbruiken alleen energie wanneer ze daadwerkelijk worden gebruikt. Je hoeft dus niet 24/7 energie te betalen om de lucht op te warmen.
Het nadeel: rekening houden met de hitte
Eerlijk gezegd is infraroodlicht behoorlijk intensief. Als je de timing verkeerd instelt of te dichtbij staat, kan de wafer oververhitten of kan de gevoelige fotoresist beschadigen. Het is geen apparaat dat je zomaar kunt gebruiken zonder nadrukkelijke controle. Je hebt nauwkeurige PID-regelingen nodig en sluiters die snel kunnen worden gesloten om de hitte onder controle te houden.
Je moet ook goed opletten met de koeling. Als je de stralingswarmte die de wafer niet bereikt, niet meeneemt in overweging, kunnen je sensoren beschadigen. Het vereist wat meer precisie om dit goed te regelen, maar de voordelen in productiesnelheid zijn de moeite waard.