Lampe zum Herstellen von Mikrofluidikgeräten

Thu, 18 Jun 2026 04:41:13 +0800

Auf der Lithografiestraße kann schon eine Abweichung von 0,5 °C während des Weichbrennvorgangs dazu führen, dass die Kanten der Mikrofluidikkanäle um Nanometer verschoben werden – und das wiederum führt zu Verlusten in der Produktionsqualität. Wir haben daher eine spezielle Lampe entwickelt, um diese Abweichungen bereits an der Quelle zu verhindern. Dadurch bleiben die Profile des Fotolacks von Wafer zu Wafer konstant.

Was technisch wichtig ist: Die Lampe verwendet kurzwellige Halogenelemente hinter einer Quarzfenster, um eine schnelle und effiziente Erwärmung zu gewährleisten. Zudem sorgt eine Schleifensteuerung dafür, dass die Temperatur auf dem Wafer bei ±0,1 °C bleibt. Die Lampe kann in Reinräumen der Klasse 1–100 eingesetzt werden, da das thermische System hermetisch abgeschlossen ist – dadurch wird die Entstehung von Partikeln nahezu vermieden. Die Wiederholgenauigkeit der Prozeduren bleibt rund um die Uhr konstant. Die Profile des Fotolacks können von Maschine zu Maschine übertragen werden, ohne weitere Einstellungen erforderlich zu sein. Der Stromverbrauch ist auf den Prozessbedarf abgestimmt – nicht auf den maximal möglichen Wert – sodass das thermische Budget erhalten bleibt.

Gerät on High-Quality Quartz Emitters

Lampe zum Herstellen von Mikrofluidikgeräten