IR on High-Quality Quartz Emitters

Keramischer Endkappen für IR Emitter

Sun, 19 Jul 2026 16:23:35 +0800

Wie man die Heizsysteme in modernen Fabriken richtig einsetzt
Wenn man Infrarotstrahler in eine digitalisierte Anlage integriert, stellt man schnell fest, dass es nicht ausreicht, einfach mehr Leistung einzusetzen. Um wirklich präzise Temperaturregelungen zu erreichen, braucht man eine stabile Wärmequelle sowie Daten, denen man vertrauen kann.

In der Regel hängt alles von einem kleinen Bauteil ab: den keramischen Endkappen. Sie können entweder dazu beitragen, das Problem zu lösen – oder sie können zum Engpass werden, der den gesamten Prozess behindert.

Aluminium Reflektor für Infrarotlampe

Sat, 11 Jul 2026 09:17:53 +0800

Sichere Nutzung von IR-Lampen in der Nähe brennbarer Chemikalien
Wenn man IR-Lampen in einer Zone zum Reinigen mit Chemikalien verwendet, handelt es sich im Grunde darum, mit Feuer zu spielen – buchstäblich. Es sind flüchtige Dämpfe vorhanden, und schon ein einziger Funke oder eine Oberfläche, die etwas zu heiß ist, kann den Arbeitsbereich in eine Katastrophengebiet verwandeln.

Wir haben viel Zeit damit verbracht, herauszufinden, wie man das verhindern kann. Der Schlüssel liegt dabei in der Kombination aus hochreinen Aluminiumreflektoren sowie besonders widerstandsfähigen Dichtungen.

Präziser IR Sensor für Wafern

Thu, 09 Jul 2026 03:02:47 +0800

Präzises Infrarot-Heizen: Warum gerade gezieltes Heizen den Unterschied bei der Waferebearbeitung ausmacht
Die Wahrheit über die Waferebearbeitung ist folgende: Es kommt darauf an, die Wärme genau dorthin zu leiten, wo sie benötigt wird – und nirgendwo sonst.
Wir entwickeln Infrarot-Heizsysteme mit diesem Ziel im Sinn. Traditionelles, breitflächiges Heizen? Das ist wie das Befüllen eines Glases mit einem Gartenschlauch – man verschwendet Energie und heizt dabei alles um sich herum auf.
Unsere gerichteten Infrarotlampen ändern das. Sie lenken die Wärme direkt auf die Wafer, nicht auf die Wände des Behälters.

Hochepräzise Erwärmung für Wafer IR

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

In der Fertigungshalle ist das Erhitzen des Fotolacks keine einfache Aufwärmphase – es handelt sich dabei vielmehr um einen Prozess, bei dem die Temperatur entscheidend für die Qualität der gewonnenen Wafer ist. Eine Abweichung von 1°C beim Weich- oder Hartbrennen führt zu Unregelmäßigkeiten in der Struktur der Wafer, außerdem entstehen zusätzliche Partikel. Wir haben unser IR-Heizsystem so konstruiert, dass solche Schwankungen vermieden werden.

Was wirklich wichtig ist: Wir verwenden Kurzwellen-IR-Strahlung mit einem Quarzemitter. Die geschlossene Pyrometrie sorgt dafür, dass die Temperatur auf allen Stellen der Wafer innerhalb von ±0,1°C konstant bleibt. Die Temperatur erreicht ihren Endwert bereits nach weniger als 3 Sekunden – dadurch kann man mit hohen Durchsatzraten arbeiten, ohne auf die Erwärmungszeit warten zu müssen. Die Steuerung erfolgt mit einer Genauigkeit von 0,1°C; die Kalibrierung erfolgt anhand von Profilen, die direkt von den Wafern abgeleitet werden.