Präziser IR Sensor für Wafern

Thu, 09 Jul 2026 03:02:47 +0800

Präzises Infrarot-Heizen: Warum gerade gezieltes Heizen den Unterschied bei der Waferebearbeitung ausmacht
Die Wahrheit über die Waferebearbeitung ist folgende: Es kommt darauf an, die Wärme genau dorthin zu leiten, wo sie benötigt wird – und nirgendwo sonst.
Wir entwickeln Infrarot-Heizsysteme mit diesem Ziel im Sinn. Traditionelles, breitflächiges Heizen? Das ist wie das Befüllen eines Glases mit einem Gartenschlauch – man verschwendet Energie und heizt dabei alles um sich herum auf.
Unsere gerichteten Infrarotlampen ändern das. Sie lenken die Wärme direkt auf die Wafer, nicht auf die Wände des Behälters.

Hochepräzise Erwärmung für Wafer IR

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

In der Fertigungshalle ist das Erhitzen des Fotolacks keine einfache Aufwärmphase – es handelt sich dabei vielmehr um einen Prozess, bei dem die Temperatur entscheidend für die Qualität der gewonnenen Wafer ist. Eine Abweichung von 1°C beim Weich- oder Hartbrennen führt zu Unregelmäßigkeiten in der Struktur der Wafer, außerdem entstehen zusätzliche Partikel. Wir haben unser IR-Heizsystem so konstruiert, dass solche Schwankungen vermieden werden.

Was wirklich wichtig ist: Wir verwenden Kurzwellen-IR-Strahlung mit einem Quarzemitter. Die geschlossene Pyrometrie sorgt dafür, dass die Temperatur auf allen Stellen der Wafer innerhalb von ±0,1°C konstant bleibt. Die Temperatur erreicht ihren Endwert bereits nach weniger als 3 Sekunden – dadurch kann man mit hohen Durchsatzraten arbeiten, ohne auf die Erwärmungszeit warten zu müssen. Die Steuerung erfolgt mit einer Genauigkeit von 0,1°C; die Kalibrierung erfolgt anhand von Profilen, die direkt von den Wafern abgeleitet werden.

Präzision on High-Quality Quartz Emitters

Präziser IR Sensor für Wafern

Hochepräzise Erwärmung für Wafer IR