Wafer on High-Quality Quartz Emitters

Reflektor für Wafer Härte Lampe

Sat, 25 Jul 2026 05:00:49 +0800

Mehr Wärme genau da, wo sie wirklich gebraucht wird
Wenn man Wafer trocknet, möchte man keine Energie verschwenden. Das ist ganz einfach: Man möchte, dass jede Einheit an Infrarotenergie auf dem Substrat ankommt – und nicht in den Gehäusekörper der Maschine gelangt und so den Raum erwärmt.

Die meisten Menschen beginnen mit Aluminium – natürlich reflektiert dieses Material etwas Wärme. Doch wenn man wirklich hohe Effekte bei Kurz- und Mittelwellen-Infrarotstrahlung erreichen möchte, ist Gold die beste Wahl. Die Reflektionsrate liegt dabei bei über 98 %.

Sicherheitsabstand bei der Wärmeeinwirkung auf die Wafer

Wed, 22 Jul 2026 04:58:34 +0800

Hören Sie auf, Ihre Wafer im Ofen zu erhitzen – es gibt eine bessere Methode
Wenn man Wafer erhitzt, möchte man, dass die Energie direkt auf das Substrat trifft. Nicht auf die Wände der Maschine.
Das Problem ist: Herkömmliche Infrarotlampen strahlen die Wärme in alle Richtungen ab – also in 360 Grad. In einem engen Halbleiterofen führt das zu Problemen. Die Innenwände werden somit zu „Riesenschwämmen“, die die Wärme speichern und dadurch unerwünschte „heiße Stellen“ entstehen. Das kann dazu führen, dass die Bauteile beschädigt werden – oder schlimmer noch: Der Bediener kann sich verbrühen, wenn er einen ungünstigen Punkt berührt.

Heizer zum Trocknen von MEMS Sensorwafern

Fri, 17 Jul 2026 08:03:36 +0800

Trocknung von MEMS-Chips mit Infrarotstrahlung – Warum das besser ist als herkömmliche Öfen
Wenn man versucht, eine moderne, intelligente Fertigungsanlage zu erstellen, kann man nicht weiterhin auf diese altmodischen Konvektionsöfen setzen. Sie sind einfach zu langsam. Für die Trocknung von MEMS-Sensorchips verwenden wir daher Systeme mit Kurzwellen-Infrarotstrahlung. Es geht dabei um Geschwindigkeit und Reaktionszeit – Eigenschaften, die bei einer digitalisierten und schnellen Produktionslinie unerlässlich sind.

Warum Infrarotstrahlung funktioniert
Bei Infrarotstrahlung wird keine Zeit damit verschwendet, die Luft um den Chip zu erhitzen. Die Strahlung trifft direkt auf die Oberfläche des Chips. Das ist ein großer Vorteil, denn dadurch vermeidet man, dass der Rest der Ausrüstung überhitzt. Zudem kann man die Leistung genau steuern – man kann die Heizgeräte direkt mit dem PLC verbinden. Wenn sich die Dicke des Chips ändert oder man die Produktionsgeschwindigkeit erhöhen möchte, kann man die Leistung in Echtzeit anpassen. Man muss nicht warten, bis die Luft im Raum warm wird.

Energieeffizienter Waferheizer

Fri, 17 Jul 2026 07:50:05 +0800

Die richtige Behandlung der Wärme im Smart Factory-Umfeld
Wenn Sie eine Smart Factory für Industrie 4.0 entwickeln, haben Sie sicherlich bereits erkannt, dass die traditionellen Methoden zur Wärmeverteilung nicht mehr ausreichen. Herkömmliche Heizungen sind langsam und unpräzise. Wenn man versucht, ein digitales Double des Prozesses zu erstellen, reicht es nicht aus, einfach nur die Umgebungstemperatur zu erhöhen.

Daher kommen hocheffiziente Infrarot-Heizungen ins Spiel. Anstatt Zeit damit zu verschwenden, die Luft um die Bauteile zu erwärmen, wirkt die Infrarot-Heizung direkt auf das Zielobjekt. Dadurch wird die Wärmeverteilung effizienter und präziser.

Temperatursensor für Wafer Werkzeuge

Mon, 13 Jul 2026 18:08:57 +0800

Hören Sie auf, auf Ihre Wafer zu warten – warum IR besser ist als geheizte Luft
Wenn Sie ein Werkzeug für die tiefgreifende Verarbeitung von Wafern auswählen, entscheiden Sie im Grunde darüber, wie Sie Energie übertragen möchten.
Die meisten Menschen beginnen mit der Verwendung von geheizter Luft. Das ist zwar der Standard, doch das Problem ist, dass Luft nur ein Zwischenmedium darstellt. Man erhitzt die Luft und hofft anschließend, dass diese die Wafer erwärmt. Doch das geht sehr langsam.
Bei der Infrarotbeheizung wird dieses Zwischenmedium weggelassen. Die Energie wird direkt auf den Substrat übertragen – ohne Wartezeit, ohne unnötige Verzögerungen.

Präziser IR Sensor für Wafern

Thu, 09 Jul 2026 03:02:47 +0800

Präzises Infrarot-Heizen: Warum gerade gezieltes Heizen den Unterschied bei der Waferebearbeitung ausmacht
Die Wahrheit über die Waferebearbeitung ist folgende: Es kommt darauf an, die Wärme genau dorthin zu leiten, wo sie benötigt wird – und nirgendwo sonst.
Wir entwickeln Infrarot-Heizsysteme mit diesem Ziel im Sinn. Traditionelles, breitflächiges Heizen? Das ist wie das Befüllen eines Glases mit einem Gartenschlauch – man verschwendet Energie und heizt dabei alles um sich herum auf.
Unsere gerichteten Infrarotlampen ändern das. Sie lenken die Wärme direkt auf die Wafer, nicht auf die Wände des Behälters.

Vorwärmgerät für bleifreie Lötwafer

Fri, 26 Jun 2026 05:29:07 +0800

Draußen auf der Produktionslinie ist es dem Zeitmesser völlig egal, welche Schicht gerade läuft. Ein Vorheizprofil, das leicht abweicht – das führt dazu, dass Fehler wie Lücken im Lötmaterial, Fehlstellungen oder Verluste durch den Photoresist in die nächste Produktionscharge gelangen. Man benötigt daher einen Wafer-Vorheizer, der mit dem thermischen Budget genauso umgeht, wie es sein sollte: als strengen Prozesslimit – und nicht als etwas, was nur „nice to have“ ist.

Was wir entwickelt haben – und warum das wichtig ist
Wir haben diesen leadfreien Wafer-Vorheizer nach einem bestimmten Prinzip entwickelt: Reproduzierbare, messbare Kontrolle. Die Temperaturgleichmäßigkeit über die gesamte Waferoberfläche wird auf ±0,1°C gehalten – dadurch startet jedes Bauteil von derselben thermischen Ausgangslage aus. Das Heizsystem verwendet Infrarotstrahlung mit präziser Spektralkontrolle – somit wird Energie effizient genutzt, ohne dass es zu Hotspots kommt.

Hochepräzise Erwärmung für Wafer IR

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

In der Fertigungshalle ist das Erhitzen des Fotolacks keine einfache Aufwärmphase – es handelt sich dabei vielmehr um einen Prozess, bei dem die Temperatur entscheidend für die Qualität der gewonnenen Wafer ist. Eine Abweichung von 1°C beim Weich- oder Hartbrennen führt zu Unregelmäßigkeiten in der Struktur der Wafer, außerdem entstehen zusätzliche Partikel. Wir haben unser IR-Heizsystem so konstruiert, dass solche Schwankungen vermieden werden.

Was wirklich wichtig ist: Wir verwenden Kurzwellen-IR-Strahlung mit einem Quarzemitter. Die geschlossene Pyrometrie sorgt dafür, dass die Temperatur auf allen Stellen der Wafer innerhalb von ±0,1°C konstant bleibt. Die Temperatur erreicht ihren Endwert bereits nach weniger als 3 Sekunden – dadurch kann man mit hohen Durchsatzraten arbeiten, ohne auf die Erwärmungszeit warten zu müssen. Die Steuerung erfolgt mit einer Genauigkeit von 0,1°C; die Kalibrierung erfolgt anhand von Profilen, die direkt von den Wafern abgeleitet werden.