Élevé on High-Quality Quartz Emitters

Lampe à chauffage UHP (Ultra High Purity)

Sat, 18 Jul 2026 04:31:48 +0800

Pourquoi nous passons à des lampes infrarouges à ultra-haute pureté pour le séchage des semi-conducteurs
Examinons les choses honnêtement : les fours à convection commencent à sembler obsolètes. Dans le domaine du séchage et du durcissement des semi-conducteurs, on observe un changement majeur vers l’utilisation de lampes infrarouges à ultra-haute pureté.
Il ne s’agit pas seulement de respecter les normes relatives à l’absence de plomb et à l’écologie – même si cela est utile. Il s’agit aussi de la manière dont la chaleur est transmise. Au lieu de faire circuler de l’air chaud dans une pièce, les lampes infrarouges utilisent des rayonnements électromagnétiques qui atteignent directement le substrat.
Plus besoin de gaspiller de l’énergie pour chauffer de grandes quantités d’air, juste pour sécher un wafer.

Radiateur de usine à plafond haut

Thu, 09 Jul 2026 02:49:27 +0800

Au cœur de la chaleur : puissance et tension électrique
Parlons de la manière dont nous avons conçu ce radiateur industriel à grande hauteur. Ce n’est pas un simple chauffage d’appoint. C’est une source de chaleur puissante, conçue pour accomplir une seule chose : fournir une chaleur intense sur une large surface.

Nous avons opté pour un système de 2500 W et 400 V pour une raison précise : cela permet de générer beaucoup de chaleur, mais la tension de 400 V maintient le courant électrique sous contrôle. Ainsi, il n’est pas nécessaire de relier l’ensemble du système avec des câbles trop gros. De plus, ce système reste stable, même lorsque d’autres machines s’allument ou s’éteignent. Pas de fluctuations de chaleur, pas de faible puissance de chauffe. Juste une chaleur constante et fiable.

Chaleur à haute précision pour IR de wafer

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

Sur le site de fabrication, le processus de séchage du photorésistant n’est pas une simple étape de réchauffement doux : c’est plutôt un paramètre thermique qui détermine la qualité des wafer, un par un. Une variation de 1°C pendant le processus de séchage peut entraîner des problèmes liés à la précision des dimensions du wafer, ainsi que l’apparition de particules indésirables. Nous avons conçu notre système de chauffage par infrarouges pour éliminer cette variabilité.