Lampe de fabrication de dispositifs microfluidiques

Thu, 18 Jun 2026 04:41:13 +0800

Sur le plan de la lithographie, même une variation de température de 0,5 °C peut provoquer un décalage de quelques nanomètres sur les bords des canaux microfluidiques – et ce décalage entraîne une perte de rendement. Nous avons conçu notre lampe de fabrication de dispositifs microfluidiques pour empêcher ce décalage dès la source, afin que les profils du photo-résistant restent dans les limites prescrites, du premier wafer au dernier.

Voici ce qui est important du point de vue technique : La lampe utilise des éléments halogènes à ondes courtes, placés derrière une fenêtre en quartz, afin d’assurer un chauffage rapide et efficace. Un système de contrôle en boucle fermée permet de maintenir une uniformité de température de ±0,1 °C au niveau du wafer. La lampe peut fonctionner dans des salles propres de classe 1–100, car son système thermique est hermétique, ce qui réduit considérablement la génération de particules. La reproductibilité des résultats est constante, quel que soit le moment de l’utilisation. De plus, les profils de cuisson du photo-résistant restent constants d’un outil à l’autre, sans besoin de réglages supplémentaires. La consommation d’énergie correspond à la fenêtre thermique requise, et non à sa valeur maximale, ce qui permet de maintenir un budget thermique maîtrisé.

Microfluidique on High-Quality Quartz Emitters

Lampe de fabrication de dispositifs microfluidiques