Mengapa Berhenti Menggunakan Udara Panas? Cara yang Lebih Baik untuk Mengeringkan Wafer
Jika Anda pernah bekerja di pabrik-pabrik pengolahan wafer yang sudah berusia tua, tentu Anda tahu bagaimana cara kerjanya. Di sana digunakan sistem yang mengeluarkan udara panas ke permukaan wafer, dengan harapan air pada permukaan wafer tersebut akan menguap. Memang cara ini sederhana, tetapi prosesnya sangat lambat.
Masalahnya adalah udara tidak efektif dalam mentransfer panas. Akibatnya, banyak energi terbuang sia-sia untuk memanaskan seluruh ruangan hanya untuk mengeringkan lapisan air tipis di permukaan wafer. Ini sama saja dengan mencoba mengeringkan satu piring dengan memanaskan seluruh dapur.
Menghilangkan “Perantara” yang Tidak Diperlukan
Di sinilah peran inframerah (IR) menjadi penting. Alih-alih memanaskan udara dan berharap panas tersebut sampai ke permukaan wafer, IR langsung menyerang molekul-molekul air tersebut. Kami menggunakan lampu IR berfrekuensi tinggi untuk mempercepat proses penguapan. Dengan demikian, waktu yang diperlukan untuk mengeringkan wafer berkurang drastis, dari menit-menit menjadi beberapa detik saja. Hal ini tentu akan mengubah ritme kerja di pabrik tersebut.
Selain itu, Anda juga tidak perlu khawatir tentang adanya “zona mati” atau pola aliran udara yang tidak merata yang menyebabkan beberapa bagian tetap basah. IR memberikan energi yang konsisten ke seluruh permukaan wafer. Karena tidak ada udara yang dikirimkan ke permukaan wafer, maka debu dan partikel halus tidak akan jatuh kembali ke permukaan wafer yang bersih tersebut.
Kecepatan yang Lebih Tinggi, Ruang yang Lebih Sedikit
Beralih ke teknologi IR bukan hanya soal kecepatan, tetapi juga soal penghematan ruang. Sistem udara biasa membutuhkan komponen yang besar, seperti blower raksasa, saluran udara yang panjang, dan alat penukar panas yang berat. Semua ini membutuhkan ruang yang sangat besar. Sebaliknya, sistem IR lebih ringkas. Ini merupakan modul yang kompak yang dapat dipasang di tempat yang sudah tersedia.
Biaya listrik pun akan berkurang. Lampu IR hanya mengonsumsi daya ketika benar-benar digunakan untuk mengeringkan wafer. Anda tidak perlu membayar biaya untuk memanaskan udara 24/7.
Perhatikan Hal-Hal Penting Terkait Panas
Sejujurnya, IR merupakan teknologi yang agresif. Jika penyetelan waktu atau jaraknya tidak tepat, wafer bisa terlalu panas atau bahkan rusak. Ini bukan alat yang bisa digunakan secara sembarangan. Anda membutuhkan kontrol PID yang baik serta mekanisme pengaturan yang cepat agar panasnya tetap terkendali.
Anda juga perlu memperhatikan masalah pendinginan. Jika Anda tidak memperhitungkan panas yang tidak sampai ke permukaan wafer, sensor-sensor yang digunakan bisa rusak. Meskipun membutuhkan persiapan yang lebih teliti, manfaatnya yang berupa peningkatan kecepatan produksi tentu sepadan dengan usaha yang dilakukan.