IR on High-Quality Quartz Emitters

Ujung ceramik untuk pemancar IR

Sun, 19 Jul 2026 16:23:41 +0800

Mendapatkan Pengaturan Suhu yang Tepat di Pabrik Modern
Jika Anda memasang elemen pemancar gelombang inframerah ke dalam pabrik digital, Anda akan segera menyadari bahwa meningkatkan daya yang digunakan bukanlah solusi yang tepat. Untuk mencapai target ketelitian yang tinggi, diperlukan panas yang stabil serta data yang dapat diandalkan.

Biasanya, semuanya bergantung pada satu komponen kecil saja, yaitu kap penutup berbahan keramik. Kap ini bisa menjadi faktor penyelamat atau justru menjadi penghambat proses produksi.

Mengapa kita menggunakan kap penutup berbahan keramik?
Sebagian besar elemen pemancar gelombang inframerah cenderung rusak tepat di titik koneksi. Itulah mengapa kita menggunakan bahan keramik. Bahan ini dapat melindungi tabung kuarsa yang panasnya sangat tinggi dari kontak dengan terminal listrik. Bayangkan saja—plastik akan meleleh dalam hitungan detik, sedangkan logam murah akan membengkok. Keramik mampu menyerap panas tersebut, sehingga kabel-kabel tidak akan rusak saat elemen pemancar beroperasi pada batas maksimalnya.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Sat, 11 Jul 2026 09:17:55 +0800

Menjaga Keamanan Lampu IR di Sekitar Bahan Kimia yang Mudah Terbakar

Ketika menggunakan lampu IR di area pembersihan bahan kimia, sebenarnya Anda sedang bermain dengan api—secara harfiah. Ada uap-uap volatil yang mengambang di udara, dan cukup satu percikan api atau permukaan yang terlalu panas saja untuk mengubah tempat kerja Anda menjadi zona bencana.

Kami telah meluangkan banyak waktu untuk mencari cara mencegah hal tersebut terjadi. Rahasianya adalah penggunaan reflektor berbahan aluminium berkualitas tinggi, serta sistem penyegelan yang kuat.

Sensor IR berkualitas tinggi untuk wafer

Thu, 09 Jul 2026 03:02:47 +0800

Pemanasan Inframerah yang Akurat: Mengapa Pemanasan yang Terfokus Sangat Penting dalam Proses Pengolahan Wafer
Inilah kenyataannya tentang proses pengolahan wafer: penting sekali untuk mengirimkan panas tepat ke tempat yang dibutuhkan, dan tidak ke tempat lainnya.

Kami merancang sistem pemanasan inframerah dengan tujuan tersebut. Pemanasan konvensional yang bersifat umum? Itu sama saja seperti menggunakan selang air untuk mengisi gelas. Energi pun terbuang sia-sia, dan bagian-bagian di sekitarnya juga ikut terpengaruh oleh panas tersebut.

Lampu inframerah berarah kami memungkinkan panas ditujukan langsung ke wafer, bukan ke dinding ruang pemrosesan.

Panas dengan presisi tinggi untuk wafer IR

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

Di fasilitas produksi, proses pemanasan fotoresist bukanlah sekadar proses pemanasan yang lembut saja. Sebenarnya, proses ini merupakan faktor penentu kualitas produk, satu wafer demi satu wafer. Perubahan suhu sebesar 1°C selama proses pemanasan dapat menyebabkan perubahan nilai CD, munculnya kotoran pada permukaan wafer, serta peningkatan jumlah partikel yang tidak diinginkan. Kami telah merancang sistem pemanas IR khusus untuk mengatasi ketidakteraturan tersebut.

Berikut adalah hal-hal penting yang perlu diperhatikan: Kami menggunakan sinar IR berfrekuensi tinggi dengan window emiter berbahan kuarsa. Sistem pengukuran suhu berbasis loop tertutup memastikan keseragaman suhu pada setiap wafer hingga ±0,1°C. Suhu akan mencapai titik stabil dalam waktu kurang dari 3 detik, sehingga proses litografi dapat berjalan dengan cepat tanpa harus menunggu proses pemanasan selesai. Kontrol suhu dilakukan dengan akurasi 0,1°C, dan kalibrasi dilakukan secara berkala untuk memastikan keakuratan pengukuran.