Tinggi on High-Quality Quartz Emitters

Lampu pemanas UHP (Ultra High Purity)

Sat, 18 Jul 2026 04:31:48 +0800

Mengapa Kita Beralih ke Lampu Inframerah UHP untuk Proses Pembuatan Semikonduktor
Sejujurnya, oven konvektif sudah mulai dianggap sebagai teknologi yang ketinggalan zaman. Dalam dunia pengeringan dan pematangan semikonduktor, kita melihat adanya pergeseran besar menuju penggunaan lampu inframerah berketahanan tinggi (UHP).

Hal ini bukan hanya soal mematuhi standar “bebas timbal dan ramah lingkungan” saja—meskipun hal tersebut juga penting. Yang lebih penting adalah cara penyebaran panasnya. Alih-alih menggunakan udara panas untuk mengeringkan suatu benda, lampu inframerah menggunakan radiasi elektromagnetik. Radiasi ini langsung mengenai permukaan benda yang akan dikeringkan.

Radiator pabrik dengan plafon tinggi

Thu, 09 Jul 2026 02:49:27 +0800

Mengerti Inti Dari Sistem Pemanas Ini: Daya dan Tegangan
Mari kita bicarakan bagaimana cara membuat pemanas ini. Ini bukan sekadar alat pemanas biasa. Ini merupakan sumber panas yang sangat kuat, dirancang untuk memberikan suhu yang tinggi di area yang luas.

Kami memilih konfigurasi 2500W, 400V karena alasan tertentu. Konfigurasi ini menghasilkan panas yang sangat besar, tetapi tegangan 400V memungkinkan arus listrik tetap terkendali. Artinya, Anda tidak perlu mengganti kabel-kabel di seluruh pabrik dengan kabel berukuran lebih besar. Selain itu, alat ini tetap stabil meskipun mesin-mesin lain dihidupkan atau dimatikan. Tidak ada gangguan pada output panasnya. Hanya panas yang konsisten dan dapat diandalkan.

Panas dengan presisi tinggi untuk wafer IR

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

Di fasilitas produksi, proses pemanasan fotoresist bukanlah sekadar proses pemanasan yang lembut saja. Sebenarnya, proses ini merupakan faktor penentu kualitas produk, satu wafer demi satu wafer. Perubahan suhu sebesar 1°C selama proses pemanasan dapat menyebabkan perubahan nilai CD, munculnya kotoran pada permukaan wafer, serta peningkatan jumlah partikel yang tidak diinginkan. Kami telah merancang sistem pemanas IR khusus untuk mengatasi ketidakteraturan tersebut.

Berikut adalah hal-hal penting yang perlu diperhatikan: Kami menggunakan sinar IR berfrekuensi tinggi dengan window emiter berbahan kuarsa. Sistem pengukuran suhu berbasis loop tertutup memastikan keseragaman suhu pada setiap wafer hingga ±0,1°C. Suhu akan mencapai titik stabil dalam waktu kurang dari 3 detik, sehingga proses litografi dapat berjalan dengan cepat tanpa harus menunggu proses pemanasan selesai. Kontrol suhu dilakukan dengan akurasi 0,1°C, dan kalibrasi dilakukan secara berkala untuk memastikan keakuratan pengukuran.