Lampada per la fabbricazione di dispositivi microfluidici

Thu, 18 Jun 2026 04:41:13 +0800

Nel processo di litografia, anche un cambiamento di temperatura di soli 0,5°C può causare uno spostamento delle pareti dei canali microfluidici di alcuni nanometri; tale spostamento, a sua volta, comporta una riduzione della resa del prodotto finito. Abbiamo progettato la nostra lampada per la produzione di dispositivi microfluidici appunto per eliminare questo tipo di variazioni, in modo che i profili del fotorestista rimangano entro i limiti previsti, dalla prima alla ultima wafer.

Ecco quali sono i fattori tecnici importanti: La lampada utilizza elementi alogenati a onde corte, posizionati dietro una finestra di quarzo, per garantire un riscaldamento rapido e efficiente. Il sistema di controllo a circuito chiuso mantiene l’uniformità della temperatura su tutto il piano della wafer entro ±0,1°C. La lampada può essere utilizzata in ambienti puliti di classe 1–100, poiché il sistema termico è sigillato, riducendo al minimo la generazione di particelle. La ripetibilità dei risultati è costante nel tempo, e i profili di riscaldamento del fotorestista rimangono stabili da un dispositivo all’altro, senza bisogno di regolazioni aggiuntive. Il consumo di energia è adeguato alle esigenze del processo, quindi il bilancio termico rimane sotto controllo.

Dispositivo on High-Quality Quartz Emitters

Lampada per la fabbricazione di dispositivi microfluidici