<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>熱 on High-Quality Quartz Emitters</title>
		<link>http://quartz-emitter.com/ja/tags/%E7%86%B1/</link>
		<description>Recent content in 熱 on High-Quality Quartz Emitters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ja</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://quartz-emitter.com/ja/tags/%E7%86%B1/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>ウェーハ用高精度加熱IR</title>
				<link>http://quartz-emitter.com/ja/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800</pubDate>
				<guid>http://quartz-emitter.com/ja/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://quartz-emitter.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;ウェーハ用高精度加熱IR&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ファブの現場では、フォトレジストのベイク処理は単なる温めるだけの作業ではありません。それは、ウェーハごとに歩留まりを決定する&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;重要&lt;/a&gt;な要素です。ソフトベイクやハードベイク時の温度が1℃変動するだけで、CD値が変わり、スカムが発生したり、粒子数が悪化したりします。私たちは、このような変動をなくすために、ウェーハ用の赤外線加熱システムを開発しました。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ここが重要なポイントです。&#xA;私たちは石英製のエミッターウィンドウを備えた短波長の赤外線を使用しており、ループ型の温度測定装置によって、一度に処理されるすべてのウェーハの温度を±0.1℃以内に保ちます。温度は3秒以内に安定するため、高効率なリソグラフィプロセスにも対応できます。制御精度は0.1℃単位で、ウェーハの特性に合わせて複数点で校正が行われます。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
