IR on High-Quality Quartz Emitters

Hujung seramik untuk pengeluar cahaya inframerah

Sun, 19 Jul 2026 16:23:42 +0800

Memastikan Sistem Pemanasan Berfungsi dengan Baik di Kilang Moden

Jika anda menggunakan pemancar IR dalam kilang yang beroperasi secara digital, anda akan menyedari bahawa menambah kuasa pada pemancar tersebut bukanlah penyelesaian yang tepat. Untuk mencapai tahap ketepatan yang diinginkan, anda memerlukan haba yang stabil serta data yang boleh dipercayai.

Biasanya, segalanya bergantung pada satu komponen kecil sahaja: penutup seramik. Komponen inilah yang boleh menyelamatkan situasi atau sebaliknya, menjadi penghalang kepada proses pengeluaran.

Mengapa kita perlu menggunakan penutup seramik

Kebanyakan pemancar IR gagal berfungsi dengan baik di titik sambungan. Itulah sebabnya kita menggunakan penutup seramik. Ia dapat melindungi tiub kuarsa yang panas daripada sentuhan terminal elektrik.

Pemantul aluminium untuk lampu IR

Sat, 11 Jul 2026 09:17:56 +0800

Melindungi Lampu IR daripada Bahan Kimia Mudah Terbakar

Apabila menggunakan lampu IR di kawasan pembersihan bahan kimia, sebenarnya anda sedang bermain dengan api—secara literalnya. Ada wap-wap mudah terbakar yang berterbangan di udara, dan hanya memerlukan percikan api atau permukaan yang terlalu panas sahaja untuk mengubah tempat kerja anda menjadi zon bencana.

Kami telah meluangkan masa yang banyak untuk mencari cara untuk mengelakkan perkara ini daripada berlaku. Rahsianya ialah penggunaan reflektor aluminium berkualiti tinggi serta sistem penyegelan yang kukuh.

Penderia IR yang tepat untuk kegunaan pada wafer.

Thu, 09 Jul 2026 03:02:47 +0800

Pemanasan Inframerah yang Tepat: Mengapa Pemanasan yang Terfokus Sangat Penting dalam Proses Pengolahan Wafer
Inilah kenyataannya mengenai proses pengolahan wafer: sangat penting untuk memberikan haba tepat di tempat yang diperlukan, dan bukan di tempat lain.
Kami menciptakan sistem pemanasan inframerah dengan tujuan tersebut. Pemanasan secara umum? Ia sama seperti menggunakan hos air untuk mengisi gelas. Anda akan membuang tenaga secara sia-sia, dan haba tersebut akan merebak ke seluruh bahagian sekelilingnya.
Lampu inframerah yang kami gunakan berfungsi untuk memfokuskan haba pada wafer, bukan pada dinding ruang pemprosesan.

Haba berketepatan tinggi untuk wafer IR

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

Di kilang pembuatan wafer ini, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh dianggap sebagai proses pemanasan biasa sahaja. Sebaliknya, suhu yang digunakan sangat penting untuk menentukan kualiti wafer tersebut. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanasan akan menyebabkan perubahan pada nilai CD, serta menghasilkan zarah-zarah yang tidak diinginkan. Kami telah membangunkan sistem pemanasan IR khusus untuk mengatasi masalah ini.

Apa yang penting dalam sistem ini ialah penggunaan gelombang inframerah pendek melalui cermin emisitor berbahan kuarsa. Sistem pemantauan suhu yang canggih pula memastikan suhu wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Suhu dapat dicapai dalam masa kurang dari 3 saat, jadi ia membolehkan proses litografi berjalan dengan lancar tanpa perlu menunggu proses pemanasan selesai. Kontrol suhu dilakukan dengan ketepatan 0.1°C, dan proses kalibrasi dilakukan menggunakan profil yang sesuai dengan ciri-ciri wafer tersebut.