Penderia IR yang tepat untuk kegunaan pada wafer.

Thu, 09 Jul 2026 03:02:47 +0800

Pemanasan Inframerah yang Tepat: Mengapa Pemanasan yang Terfokus Sangat Penting dalam Proses Pengolahan Wafer
Inilah kenyataannya mengenai proses pengolahan wafer: sangat penting untuk memberikan haba tepat di tempat yang diperlukan, dan bukan di tempat lain.
Kami menciptakan sistem pemanasan inframerah dengan tujuan tersebut. Pemanasan secara umum? Ia sama seperti menggunakan hos air untuk mengisi gelas. Anda akan membuang tenaga secara sia-sia, dan haba tersebut akan merebak ke seluruh bahagian sekelilingnya.
Lampu inframerah yang kami gunakan berfungsi untuk memfokuskan haba pada wafer, bukan pada dinding ruang pemprosesan.

Haba berketepatan tinggi untuk wafer IR

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

Di kilang pembuatan wafer ini, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh dianggap sebagai proses pemanasan biasa sahaja. Sebaliknya, suhu yang digunakan sangat penting untuk menentukan kualiti wafer tersebut. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanasan akan menyebabkan perubahan pada nilai CD, serta menghasilkan zarah-zarah yang tidak diinginkan. Kami telah membangunkan sistem pemanasan IR khusus untuk mengatasi masalah ini.

Apa yang penting dalam sistem ini ialah penggunaan gelombang inframerah pendek melalui cermin emisitor berbahan kuarsa. Sistem pemantauan suhu yang canggih pula memastikan suhu wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Suhu dapat dicapai dalam masa kurang dari 3 saat, jadi ia membolehkan proses litografi berjalan dengan lancar tanpa perlu menunggu proses pemanasan selesai. Kontrol suhu dilakukan dengan ketepatan 0.1°C, dan proses kalibrasi dilakukan menggunakan profil yang sesuai dengan ciri-ciri wafer tersebut.

Ketepatan on High-Quality Quartz Emitters

Penderia IR yang tepat untuk kegunaan pada wafer.

Haba berketepatan tinggi untuk wafer IR