<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Peranti on High-Quality Quartz Emitters</title>
		<link>http://quartz-emitter.com/ms/tags/peranti/</link>
		<description>Recent content in Peranti on High-Quality Quartz Emitters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:41:13 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://quartz-emitter.com/ms/tags/peranti/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu untuk pembuatan peranti mikrofluidik</title>
				<link>http://quartz-emitter.com/ms/posts/microfluidic-device-fabrication-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:41:13 +0800</pubDate>
				<guid>http://quartz-emitter.com/ms/posts/microfluidic-device-fabrication-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://quartz-emitter.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Lampu untuk pembuatan peranti mikrofluidik&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bahagian proses litografi, perubahan suhu sebanyak 0.5°C &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;sahaja&lt;/a&gt; sudah cukup untuk mengubah kedudukan tepi saluran mikrofluidik sebanyak beberapa nanometer. Perubahan ini seterusnya akan menyebabkan penurunan kualiti produk yang dihasilkan. Kami telah mencipta lampu khusus untuk proses pembuatan peranti mikrofluidik ini, agar perubahan suhu dapat dikawal dari awal hingga akhir proses pengeluaran, sehingga profil fotorezist tetap memenuhi spesifikasi yang ditetapkan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;Berikut&lt;/a&gt; adalah faktor-faktor teknikal yang penting:&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Lampu ini menggunakan unsur halogen berfrekuensi tinggi yang terletak di belakang kaca kuarsa, agar pemanasan dapat berlaku dengan cepat dan efisien. Sistem kawalan tertutup pula memastikan suhu di permukaan wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Lampu ini boleh digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, kerana sistem pemanasannya disegel dengan baik, sehingga penghasilan zarah-zarah kecil dapat diminimumkan. Repeatabiliti hasil penggunaan lampu ini sangat tinggi, dan profil fotorezist dapat dipindahkan dari satu alat ke alat lain tanpa perlu penyesuaian lagi. Penggunaan tenaga juga disesuaikan mengikut keperluan proses, bukan pada tahap maksimum, agar penggunaan tenaga tetap terkawal.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
