http://quartz-emitter.com/ms/tags/suhu/ Recent content in Suhu on High-Quality Quartz Emitters Hugo ms Mon, 13 Jul 2026 18:08:57 +0800 http://quartz-emitter.com/ms/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/ Mon, 13 Jul 2026 18:08:57 +0800 http://quartz-emitter.com/ms/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/ <p><img src="http://quartz-emitter.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Pengesan suhu untuk alat pemprosesan wafer"></p> <h1 id="hentikan-menunggu-mengapa-ir-lebih-baik-daripada-penggunaan-udara-panas">Hentikan menunggu: Mengapa IR lebih baik daripada <a href="https://goldisgood.com">penggunaan</a> udara panas</h1> <p>Ketika memilih alat untuk proses pemprosesan wafer yang mendalam, anda sebenarnya sedang memutuskan cara untuk menghantar tenaga ke wafer tersebut. Kebanyakan orang memilih penggunaan udara panas sebagai kaedah yang biasa digunakan. Namun masalahnya ialah udara hanyalah pengantara semata-mata. Anda memanaskan udara terlebih dahulu, dan kemudian berharap udara tersebut akan memanaskan wafer. Proses ini sangat lambat.</p> <p>Pemanasan menggunakan gelombang inframerah pula tidak memerlukan pengantara tersebut. Tenaga dihantar terus ke permukaan wafer. Tiada masa menunggu, tiada halangan.</p> http://quartz-emitter.com/ms/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/ Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800 http://quartz-emitter.com/ms/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/ <p><img src="http://quartz-emitter.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Haba berketepatan tinggi untuk wafer IR"></p> <p>Di kilang pembuatan wafer ini, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh dianggap sebagai proses pemanasan biasa sahaja. Sebaliknya, suhu yang digunakan sangat penting untuk menentukan kualiti wafer tersebut. Perubahan suhu sebanyak 1°C <a href="https://o-yate.net">semasa</a> proses pemanasan akan menyebabkan perubahan pada nilai CD, serta menghasilkan zarah-zarah yang tidak diinginkan. Kami telah membangunkan sistem pemanasan IR khusus untuk mengatasi masalah ini.</p> <p>Apa yang penting dalam sistem ini ialah <a href="https://henruite.com">penggunaan</a> gelombang inframerah pendek melalui cermin emisitor berbahan kuarsa. Sistem pemantauan suhu yang canggih pula memastikan suhu wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Suhu dapat dicapai dalam masa kurang dari 3 saat, jadi ia membolehkan proses litografi berjalan dengan lancar tanpa perlu menunggu proses pemanasan selesai. Kontrol suhu dilakukan dengan ketepatan 0.1°C, dan proses kalibrasi dilakukan menggunakan profil yang sesuai dengan ciri-ciri wafer tersebut.</p>