Tinggi on High-Quality Quartz Emitters

Lampu pemanas UHP (Ultra High Purity)

Sat, 18 Jul 2026 04:31:48 +0800

Mengapa Kita Beralih ke Lampu Inframerah UHP untuk Proses Pembuatan Semikonduktor

Mari kita jujur: ketuhar konvensional kini sudah dianggap ketinggalan zaman. Dalam bidang pengeringan dan proses pematangan semikonduktor, kita sedang menyaksikan peralihan yang besar ke arah penggunaan lampu inframerah berketulenan ultra tinggi (UHP).

Ini bukan sekadar soal pematuhan terhadap standard “bebas plumbum dan mesra alam” – walaupun itu juga penting. Yang lebih penting ialah cara haba disalurkan. Berbeza dengan ketuhar konvensional yang menggunakan udara panas untuk mengeringkan bahan tersebut, lampu inframerah menggunakan radiasi elektromagnetik untuk memanaskan bahan tersebut secara langsung. Dengan cara ini, tidak perlu lagi membuang tenaga untuk memanaskan udara di sekeliling bahan tersebut.

Pelepas haba kilang dengan siling yang tinggi

Thu, 09 Jul 2026 02:49:27 +0800

Mengenali Intipati Sistem Pemanasan Ini: Kuasa dan Voltan
Mari kita bincangkan bagaimana kita membina pemanas kilang yang berkuasa tinggi ini. Ia bukanlah alat pemanas biasa; ia merupakan sumber haba yang sangat kuat, direka untuk memberikan haba yang konsisten di kawasan yang luas.

Kami memilih konfigurasi 2500W, 400V kerana ia mampu menghasilkan haba yang banyak, tetapi voltan 400V memastikan arus elektrik kekal terkawal. Ini bermakna anda tidak perlu menggantikan semua kabel dalam sistem tersebut dengan kabel yang lebih besar. Selain itu, alat ini akan tetap berfungsi dengan stabil walaupun mesin-mesin lain dihidupkan atau dimatikan. Tiada masalah dengan prestasi alat ini.

Haba berketepatan tinggi untuk wafer IR

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

Di kilang pembuatan wafer ini, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh dianggap sebagai proses pemanasan biasa sahaja. Sebaliknya, suhu yang digunakan sangat penting untuk menentukan kualiti wafer tersebut. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanasan akan menyebabkan perubahan pada nilai CD, serta menghasilkan zarah-zarah yang tidak diinginkan. Kami telah membangunkan sistem pemanasan IR khusus untuk mengatasi masalah ini.

Apa yang penting dalam sistem ini ialah penggunaan gelombang inframerah pendek melalui cermin emisitor berbahan kuarsa. Sistem pemantauan suhu yang canggih pula memastikan suhu wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Suhu dapat dicapai dalam masa kurang dari 3 saat, jadi ia membolehkan proses litografi berjalan dengan lancar tanpa perlu menunggu proses pemanasan selesai. Kontrol suhu dilakukan dengan ketepatan 0.1°C, dan proses kalibrasi dilakukan menggunakan profil yang sesuai dengan ciri-ciri wafer tersebut.