Wafer on High-Quality Quartz Emitters

Reflektor untuk lampu pengeringan wafer

Sat, 25 Jul 2026 05:00:49 +0800

Mendapatkan lebih banyak haba di tempat yang benar-benar diperlukan
Ketika memproses wafer, kita tidak mahu membazir tenaga. Itu saja. Kita ingin agar setiap sedikit tenaga inframerah yang sampai ke permukaan wafer digunakan sepenuhnya, bukannya terbuang ke bahagian lain mesin sehingga menyebabkan bilik menjadi panas.

Kebanyakan orang menggunakan aluminium untuk tujuan ini. Memang, aluminium dapat memantulkan sedikit haba. Namun, jika kita ingin mendapatkan hasil yang terbaik untuk gelombang inframerah pendek dan sederhana, emas merupakan pilihan yang terbaik. Tahap pantulan cahaya oleh emas boleh mencapai lebih dari 98%.

Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer

Wed, 22 Jul 2026 04:58:34 +0800

Hentikan amalan memanaskan komponen menggunakan cara biasa: Cara yang lebih baik untuk memanaskan wafer

Ketika memanaskan wafer, apa yang anda inginkan ialah tenaga haba yang sampai ke permukaan wafer itu sendiri. Anda tidak mahu tenaga haba tersebut sampai ke dinding mesin.

Masalahnya ialah lampu IR biasa mengeluarkan haba ke semua arah, iaitu 360 darjah. Dalam bilik semikonduktor yang sempit, ini akan menyebabkan masalah besar. Dinding dalaman bilik tersebut akan menjadi “span” yang menyerap haba, lalu menciptakan kawasan panas yang boleh merosakkan komponen tersebut atau bahkan membahayakan orang yang menyentuhnya.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Fri, 17 Jul 2026 08:03:44 +0800

Mengeringkan Wafer MEMS menggunakan Sinar Inframerah: Mengapa cara ini lebih baik daripada kaedah lama

Jika anda ingin membina fasiliti pengeluaran yang moden dan canggih, anda tidak boleh terus menggunakan kaedah pengeringan menggunakan oven konvensional yang lama. Kaedah tersebut sangat lambat. Untuk mengeringkan wafer sensor MEMS, kita menggunakan sistem sinar inframerah berfrekuensi tinggi. Ini kerana kelajuan dan masa tindak balas adalah faktor penting dalam proses pengeluaran yang berlangsung dengan cepat.

Mengapa sinar inframerah efektif

Ciri utama sinar inframerah ialah ia tidak membuang masa untuk memanaskan udara di sekitar wafer. Ia hanya memanaskan permukaan wafer secara langsung. Ini merupakan kelebihan besar, kerana ia dapat mengelakkan komponen lain daripada terlalu panas. Selain itu, kerana kuasa yang digunakan boleh dikawal dengan tepat, ia boleh disambung terus ke sistem PLC. Jika ketebalan wafer berubah atau anda ingin meningkatkan kelajuan pengeluaran, anda boleh menyesuaikan kuasa tersebut secara masa nyata. Tidak perlu menunggu udara panas untuk mencapai suhu yang diinginkan.

Pemanas wafer yang cekap dari segi tenaga

Fri, 17 Jul 2026 07:50:09 +0800

Mengoptimumkan Proses Pemanasan dalam Fabrikasi Pintar
Jika anda sedang membina fasiliti fabrikasi pintar untuk Industri 4.0, anda pasti menyedari bahawa cara lama untuk mengendalikan suhu sudah tidak lagi sesuai. Pemanas tradisional berfungsi dengan perlahan, dan ia juga tidak dapat memberikan suhu yang konsisten. Apabila anda ingin mencipta “versi digital” daripada proses pengeluaran anda, suhu yang “cukup panas” saja tidak cukup.

Di sinilah peranan pemanas inframerah berkecekapan tinggi. Daripada membuang masa untuk memanaskan udara di sekeliling komponen, pemanas inframerah akan memanaskan permukaan komponen secara langsung. Kaedah ini lebih efisien, cepat, dan mudah dikawal.

Pengesan suhu untuk alat pemprosesan wafer

Mon, 13 Jul 2026 18:08:57 +0800

Hentikan menunggu: Mengapa IR lebih baik daripada penggunaan udara panas

Ketika memilih alat untuk proses pemprosesan wafer yang mendalam, anda sebenarnya sedang memutuskan cara untuk menghantar tenaga ke wafer tersebut. Kebanyakan orang memilih penggunaan udara panas sebagai kaedah yang biasa digunakan. Namun masalahnya ialah udara hanyalah pengantara semata-mata. Anda memanaskan udara terlebih dahulu, dan kemudian berharap udara tersebut akan memanaskan wafer. Proses ini sangat lambat.

Pemanasan menggunakan gelombang inframerah pula tidak memerlukan pengantara tersebut. Tenaga dihantar terus ke permukaan wafer. Tiada masa menunggu, tiada halangan.

Penderia IR yang tepat untuk kegunaan pada wafer.

Thu, 09 Jul 2026 03:02:47 +0800

Pemanasan Inframerah yang Tepat: Mengapa Pemanasan yang Terfokus Sangat Penting dalam Proses Pengolahan Wafer
Inilah kenyataannya mengenai proses pengolahan wafer: sangat penting untuk memberikan haba tepat di tempat yang diperlukan, dan bukan di tempat lain.
Kami menciptakan sistem pemanasan inframerah dengan tujuan tersebut. Pemanasan secara umum? Ia sama seperti menggunakan hos air untuk mengisi gelas. Anda akan membuang tenaga secara sia-sia, dan haba tersebut akan merebak ke seluruh bahagian sekelilingnya.
Lampu inframerah yang kami gunakan berfungsi untuk memfokuskan haba pada wafer, bukan pada dinding ruang pemprosesan.

Pemanas wafer penyambung bebas plumbum

Fri, 26 Jun 2026 05:29:07 +0800

Di garis pengeluaran tersebut, jam tidak kisah apa waktu operasinya. Jika suhu pra-pemanasan berubah sedikit saja, itu akan menyebabkan masalah seperti lubang pada lapisan solder, ketidakselarasan, dan penurunan kualiti bahan yang digunakan. Anda memerlukan alat pra-pemanas yang mampu mengawal suhu dengan tepat – sebagai batasan proses yang penting, bukan sekadar sesuatu yang boleh diabaikan.

Apa yang telah kita bangunkan, dan mengapa ia penting
Kita membina alat pra-pemanas ini berdasarkan satu prinsip utama: kawalan yang boleh diulang dan dapat diukur. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer dikekalkan pada tahap ±0.1°C, agar setiap komponen memulakan proses pengeluaran dari titik suhu yang sama. Sistem pemanasan ini menggunakan sinar inframerah dengan kawalan spektrum yang tepat – tenaga yang cepat dan bersih, tanpa adanya titik panas.

Haba berketepatan tinggi untuk wafer IR

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

Di kilang pembuatan wafer ini, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh dianggap sebagai proses pemanasan biasa sahaja. Sebaliknya, suhu yang digunakan sangat penting untuk menentukan kualiti wafer tersebut. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanasan akan menyebabkan perubahan pada nilai CD, serta menghasilkan zarah-zarah yang tidak diinginkan. Kami telah membangunkan sistem pemanasan IR khusus untuk mengatasi masalah ini.

Apa yang penting dalam sistem ini ialah penggunaan gelombang inframerah pendek melalui cermin emisitor berbahan kuarsa. Sistem pemantauan suhu yang canggih pula memastikan suhu wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Suhu dapat dicapai dalam masa kurang dari 3 saat, jadi ia membolehkan proses litografi berjalan dengan lancar tanpa perlu menunggu proses pemanasan selesai. Kontrol suhu dilakukan dengan ketepatan 0.1°C, dan proses kalibrasi dilakukan menggunakan profil yang sesuai dengan ciri-ciri wafer tersebut.