Fabriekslamp voor microfluidische apparaten

Thu, 18 Jun 2026 04:41:13 +0800

Op de lithografiefaciliteit kan zelfs een verschil van maar 0,5°C tijdens het verhitten van het materiaal ertoe leiden dat de randen van de microfluidische kanalen enkele nanometers verschuiven. Dit verschil heeft weer tot gevolg dat de kwaliteit van het eindproduct afneemt. We hebben onze apparatuur ontworpen om dit soort verschuivingen vanaf het begin te voorkomen, zodat de eigenschappen van het materiaal van de eerste tot de laatste plaat constant blijven.

Het belangrijkste technische aspect is dat de lamp gebruikmaakt van kortegolflange halogeen elementen achter een kwartsramen, zodat er snel en efficiënt wordt opgewarmd. Bovendien zorgt een gesloten controlecyclus ervoor dat de temperatuur op het niveau van de plaat op ±0,1°C blijft. De lamp kan worden gebruikt in schoonruimtes van klasse 1–100, omdat het systeem goed geïsoleerd is, waardoor er nauwelijks deeltjes worden gegenereerd. De reproduceerbaarheid van de resultaten blijft constant, ongeacht wanneer er wordt gewerkt. De energieverbruik past zich aan aan de vereisten van het proces, niet aan het maximale niveau, zodat het thermische budget goed behouden blijft.

Apparaat on High-Quality Quartz Emitters

Fabriekslamp voor microfluidische apparaten