Hoge precisie hitte voor IR wafers

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

Op de productielijn is het verhitten van de fotoresist geen eenvoudig proces – het bepaalt namelijk de kwaliteit van de producten, stuk voor stuk. Een verschil van 1°C tijdens het zachte of harde verhitten heeft invloed op de nauwkeurigheid en kan leiden tot fouten in de productie. We hebben ons IR-verwarmingssysteem zo ontworpen dat deze variabelen worden weggenomen.

Wat belangrijk is, is dat we gebruikmaken van kortegolflengte-IR-straling via een kwartsemitter. Dankzij de gesloten lusmeting blijft de temperatuur op het wafer op ±0,1°C stabiel. De temperatuur bereikt binnen 3 seconden zijn gewenste niveau, zodat u kunt meekomen met hoge productiesnelheden zonder te hoeven wachten op het afkoelen van het wafer. De controle vindt plaats met een resolutie van 0,1°C, en de kalibratie is mogelijk door gebruik te maken van profielen die zijn gegenereerd op basis van de waardes van het wafer zelf.

Hitte on High-Quality Quartz Emitters

Hoge precisie hitte voor IR wafers