IR on High-Quality Quartz Emitters

Ceramisch eindkapje voor IR emitter

Sun, 19 Jul 2026 16:23:42 +0800

Het goed regelen van de thermische oplossingen in een moderne fabriek

Als je IR-emitters gebruikt in een gedigitaliseerde fabriek, besef je al snel dat het niet voldoende is om gewoon meer vermogen te gebruiken. Om echt die hoge precisienormen te bereiken, heb je warmte nodig die stabiel blijft, en gegevens die je kunt vertrouwen.

Meestal hangt alles af van één klein onderdeel: de keramische eindkapjes. Ze kunnen zowel helpen om het proces soepel te laten verlopen, als juist een obstakel vormen.

Aluminiumreflector voor IR lamp

Sat, 11 Jul 2026 09:17:56 +0800

Het veilig houden van IR-lampen in de buurt van brandbare chemicaliën
Wanneer je IR-lampen gebruikt in een ruimte waar chemische stoffen worden gebruikt voor reinigingsdoeleinden, speel je letterlijk met vuur. Er zijn immers vluchtige dampen aanwezig, en één enkele vonk of een oppervlak dat te heet is, kan al voldoende zijn om je werkplek in een gevaarlijke situatie te veranderen.

We hebben veel tijd besteed aan het bedenken van manieren om dit te voorkomen. Het geheim zit hem in het gebruik van aluminiumreflectoren van hoge kwaliteit, samen met sterke afsluitingen.

Precisie IR sensor voor wafer

Thu, 09 Jul 2026 03:02:47 +0800

Precieze infrarode verwarming: waarom gefocuste warmte het verschil maakt bij het verwerken van wafers
Hier is de waarheid over het verwerken van wafers: het is cruciaal om de warmte precies daar te brengen waar deze nodig is – en nergens anders.
Wij bouwen infraroodverwarmingsystemen met dit doel voor ogen. Traditionele, breedverspreide verwarming? Dat is net alsof je een tuinslang gebruikt om een glas te vullen. Je verspilt energie en alles eromheen wordt ook warm.
Onze gerichte infraroodlampen veranderen dit. Ze zorgen ervoor dat de warmte op de wafer terechtkomt, en niet op de wanden van de kamer.

Hoge precisie hitte voor IR wafers

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

Op de productielijn is het verhitten van de fotoresist geen eenvoudig proces – het bepaalt namelijk de kwaliteit van de producten, stuk voor stuk. Een verschil van 1°C tijdens het zachte of harde verhitten heeft invloed op de nauwkeurigheid en kan leiden tot fouten in de productie. We hebben ons IR-verwarmingssysteem zo ontworpen dat deze variabelen worden weggenomen.

Wat belangrijk is, is dat we gebruikmaken van kortegolflengte-IR-straling via een kwartsemitter. Dankzij de gesloten lusmeting blijft de temperatuur op het wafer op ±0,1°C stabiel. De temperatuur bereikt binnen 3 seconden zijn gewenste niveau, zodat u kunt meekomen met hoge productiesnelheden zonder te hoeven wachten op het afkoelen van het wafer. De controle vindt plaats met een resolutie van 0,1°C, en de kalibratie is mogelijk door gebruik te maken van profielen die zijn gegenereerd op basis van de waardes van het wafer zelf.