Wafel on High-Quality Quartz Emitters

Reflector voor wafercuringlamp

Sat, 25 Jul 2026 05:00:49 +0800

Meer warmte op de plekken waar het echt nodig is
Wanneer je wafers wilt drogen, wil je geen energie verspillen. Het is simpel: je wilt dat al die infraroodenergie rechtstreeks op het substraat terechtkomt, zodat deze niet naar het apparaat zelf of de ruimte eromheen gaat.

De meeste mensen beginnen met aluminium, en dat weerspiegelt inderdaad wat warmte. Maar als je echt optimale resultaten wilt behalen voor kortegolf- en middenfrequente infraroodstraling, dan is goud de oplossing. Hierdoor wordt wel 98% van de energie weerkaatst.

Veiligheidsafstand voor het opwarmen van de wafer

Wed, 22 Jul 2026 04:58:34 +0800

Stop met het verhitten van je kasten: een betere manier om wafers te verhitten

Wanneer je wafers verhit, wil je dat de energie rechtstreeks op het substraat terechtkomt. Punt uit. Je wilt niet dat de energie tegen de muren van de machine slaat.
Het probleem is dat standaard IR-lampen behoorlijk onbruikbaar zijn – ze stralen warmte in alle richtingen, 360 graden. In een kleine hal voor halfgeleiders leidt dit tot grote problemen. De binnenmuren worden dan eigenlijk enorme ‘sponzen’ voor warmte, waardoor er ‘ hete plekken’ ontstaan die kunnen zorgen dat je apparatuur beschadigd raakt of dat iemand die per ongeluk op zo’n plek komt te staan, gewond raakt.

MEMS sensorwaferdroogheater

Fri, 17 Jul 2026 08:03:46 +0800

Het drogen van MEMS-chips met infraroodstraling: waarom dit beter is dan oude ovens
Als je een moderne, geavanceerde productielijn wilt bouwen, kun je niet blijven werken met die ouderwetse convectieovens. Ze zijn gewoon te langzaam. Voor het drogen van MEMS-sensorchips gebruiken we nu systemen met kortegolflengte-infraroodstraling. Het gaat hier om snelheid en reactietijd – precies de eigenschappen die nodig zijn wanneer je productielijn digitaal is en snel moet werken.

Waarom infraroodstraling werkt
Infraroodstraling heeft als voordeel dat het geen tijd verspilt aan het opwarmen van de lucht rondom de chip. De straling bereikt direct het oppervlak van de chip. Dat is een groot voordeel, want zo voorkomt men dat de rest van de apparatuur oververhit raakt. Bovendien kan je de vermogenssterkte precies regelen, zodat je de apparatuur rechtstreeks kunt koppelen aan je PLC. Als de dikte van de chip verandert of je de productiesnelheid wilt verhogen, kun je de vermogenssterkte in real-time aanpassen. Je hoeft niet te wachten tot de lucht voldoende is opgewarmd.

Energiezuinige waferverwarmer

Fri, 17 Jul 2026 07:50:10 +0800

Het goed regelen van de thermische processen in een Smart Fab

Als je een Smart Fab voor Industry 4.0 bouwt, heb je vast al door dat de oude manier van hittebeheersing niet meer voldoende is. Traditionele verwarmers zijn traag en reageren langzaam. En wanneer je probeert een digitale weergave van je proces te maken, is het niet voldoende om de onderdelen alleen maar ‘licht op te warmen’.

Hier komt hoogwaardige infraroodverwarming om de hoek kijken. In plaats van tijd te verspillen aan het opwarmen van de lucht rondom de onderdelen, bereikt het infraroodlicht het doel rechtstreeks. Dit is efficiënter, sneller en veel voorspelbaarder.

Temperatuursensor voor wafer machine

Mon, 13 Jul 2026 18:08:57 +0800

Stop met wachten op de juiste temperatuur: waarom infrarood beter is dan warme lucht

Wanneer je een apparaat kiest voor het verwerken van wafers, beslis je in feite hoe je energie wilt overdragen. De meeste mensen kiezen voor warme lucht. Dat is de standaardmethode. Maar het probleem is dat lucht slechts een soort ‘mediator’ is. Je verwarmt de lucht, in de hoop dat deze vervolgens de wafer kan verwarmen. Dit proces is echter langzaam.

Infraroodverwarming elimineert deze mediator helemaal. De energie wordt rechtstreeks naar het substraat gestuurd. Geen wachten, geen onnodige complicaties.

Precisie IR sensor voor wafer

Thu, 09 Jul 2026 03:02:47 +0800

Precieze infrarode verwarming: waarom gefocuste warmte het verschil maakt bij het verwerken van wafers
Hier is de waarheid over het verwerken van wafers: het is cruciaal om de warmte precies daar te brengen waar deze nodig is – en nergens anders.
Wij bouwen infraroodverwarmingsystemen met dit doel voor ogen. Traditionele, breedverspreide verwarming? Dat is net alsof je een tuinslang gebruikt om een glas te vullen. Je verspilt energie en alles eromheen wordt ook warm.
Onze gerichte infraroodlampen veranderen dit. Ze zorgen ervoor dat de warmte op de wafer terechtkomt, en niet op de wanden van de kamer.

Voorverwarmer voor loodvrije lasplaat

Fri, 26 Jun 2026 05:29:07 +0800

Op de productielijn doet de klok er niet toe om welke dienst het gaat. Een voorverwarmingsprofiel dat iets afwijkt? Dat zorgt er juist voor dat er fouten optreden tijdens het lassen, dat er geen goede alignement is en dat de kwaliteit van het product verslechtert. Je hebt dus een voorverwarmingsapparaat nodig dat de thermische parameters op de juiste manier behandelt: als een strikte grens, en niet als iets wat je alleen maar fijn vindt om te hebben.

Hoge precisie hitte voor IR wafers

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

Op de productielijn is het verhitten van de fotoresist geen eenvoudig proces – het bepaalt namelijk de kwaliteit van de producten, stuk voor stuk. Een verschil van 1°C tijdens het zachte of harde verhitten heeft invloed op de nauwkeurigheid en kan leiden tot fouten in de productie. We hebben ons IR-verwarmingssysteem zo ontworpen dat deze variabelen worden weggenomen.

Wat belangrijk is, is dat we gebruikmaken van kortegolflengte-IR-straling via een kwartsemitter. Dankzij de gesloten lusmeting blijft de temperatuur op het wafer op ±0,1°C stabiel. De temperatuur bereikt binnen 3 seconden zijn gewenste niveau, zodat u kunt meekomen met hoge productiesnelheden zonder te hoeven wachten op het afkoelen van het wafer. De controle vindt plaats met een resolutie van 0,1°C, en de kalibratie is mogelijk door gebruik te maken van profielen die zijn gegenereerd op basis van de waardes van het wafer zelf.