Calor de alta precisão para IR de wafer

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

Na fábrica, o processo de secagem do fotorevestimento não é algo simples – trata-se de um processo térmico que determina a qualidade dos produtos, wafer por wafer. Uma variação de 1°C no tempo de secagem pode afetar o coeficiente de concentração, causar formação de resíduos e aumentar a quantidade de partículas indesejadas. Desenvolvemos nosso sistema de aquecimento por IR para eliminar essas variações.

O que realmente importa é a precisão do controle térmico. Utilizamos radiação infravermelha de onda curta, com uma janela de emissão feita de quartzo. A medição da temperatura é feita em circuito fechado, garantindo uma uniformidade de ±0,1°C em todo o wafer. A temperatura atinge o valor desejado em menos de 3 segundos, permitindo que a produção continue sem interrupções. O controle térmico é preciso até 0,1°C, com calibração múltipla que permite acompanhar as variações de temperatura em cada wafer.

Calor on High-Quality Quartz Emitters

Calor de alta precisão para IR de wafer