Lâmpada para fabricação de dispositivos microfluídicos

Thu, 18 Jun 2026 04:41:13 +0800

No processo de litografia, mesmo uma variação de temperatura de 0,5°C pode fazer com que as bordas dos canais microfluídicos se deslocem em nanômetros – e esse deslocamento acaba causando perdas na produtividade. Por isso, desenvolvemos uma lâmpada especial para a fabricação de dispositivos microfluídicos, capaz de evitar esse deslocamento desde o início do processo, garantindo que os perfis do fotorelevo permaneçam dentro das especificações, desde a primeira até a última placa.

O que é importante tecnicamente: A lâmpada utiliza elementos halógenos de onda curta, localizados atrás de uma janela de quartzo, para um aquecimento rápido e eficiente. Além disso, o sistema de controle em circuito fechado mantém a uniformidade da temperatura da placa em ±0,1°C. Ela funciona em salas limpas de classe 1–100, pois seu sistema térmico é selado, o que reduz drasticamente a geração de partículas. A repetibilidade do processo é constante, e os perfis de aquecimento do fotorelevo podem ser transferidos de uma máquina para outra sem necessidade de ajustes adicionais. O consumo de energia é adaptado às condições do processo, e não ao valor máximo, o que permite que o orçamento térmico seja mantido sob controle.

Dispositivo on High-Quality Quartz Emitters

Lâmpada para fabricação de dispositivos microfluídicos