<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Device on High-Quality Quartz Emitters</title>
		<link>http://quartz-emitter.com/uk/tags/device/</link>
		<description>Recent content in Device on High-Quality Quartz Emitters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:41:13 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://quartz-emitter.com/uk/tags/device/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Пристрій для виготовлення мікрофлюїдичних устроїв</title>
				<link>http://quartz-emitter.com/uk/posts/microfluidic-device-fabrication-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:41:13 +0800</pubDate>
				<guid>http://quartz-emitter.com/uk/posts/microfluidic-device-fabrication-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://quartz-emitter.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Пристрій для виготовлення мікрофлюїдичних устроїв&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На етапі літографії навіть незначна зміна температури у 0,5°C може призвести до зміщення країв мікрофлуїдних каналів на кілька нанометрів – а це, у свою чергу, призводить до втрати продуктивності. Ми створили спеціальну лампу для виробництва мікрофлуїдних пристроїв, яка дозволяє запобігти таким зміщенням ще на початковому етапі, щоб профілі фоторезисту залишалися в межах допусків від першого до останнього відрізка пластини.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Ось що є важливим з технічної точки зору:&#xA;Лампа використовує галогенні елементи короткої довжини хвилі, розташовані за кварцовим склом, для швидкого та ефективного нагрівання. Система закритого контролю забезпечує стабільність температури на рівні ±0,1°C. Лампа може функціонувати в чистих приміщеннях класу 1–100, оскільки її тепловий блок є герметичним, що дозволяє зведення кількості частинок до мінімуму. Повторюваність результатів залишається стабільною протягом усього часу роботи, а профілі нагрівання фоторезисту не змінюються під час переходу від одного пристрою до іншого. Споживана потужність соответствує параметрам процесу, а не його максимальному значенню, тож тепловий бюджет залишається контрольованим.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
