Wafer on High-Quality Quartz Emitters

Bộ phản xạ ánh sáng cho đèn khử ẩm wafer

Sat, 25 Jul 2026 05:00:49 +0800

Tạo ra nhiều nhiệt hơn ở những vị trí cần thiết
Khi xử lý các tấm wafer, bạn không muốn lãng phí năng lượng. Bạn muốn mọi bức xạ hồng ngoại đều chiếu vào bề mặt wafer, chứ không bị thất thoát ra khỏi máy và làm nóng cả căn phòng.

Hầu hết mọi người đều sử dụng chất liệu nhôm để làm vật liệu phản xạ nhiệt; tuy nhiên, nhôm chỉ có thể phản xạ một phần năng lượng mà thôi. Nếu bạn muốn hiệu quả cao hơn trong việc phản xạ bức xạ hồng ngoại sóng ngắn và sóng trung bình, thì vàng mới là lựa chọn tốt nhất. Mức độ phản xạ của vàng có thể lên đến trên 98%.

Khoảng cách an toàn khi làm nóng wafer

Wed, 22 Jul 2026 04:58:34 +0800

Ngừng việc sử dụng phương pháp đun nóng truyền thống: Cách tốt hơn để làm nóng các tấm wafer
Khi bạn muốn làm nóng các tấm wafer, điều quan trọng là năng lượng cần được truyền trực tiếp vào bề mặt của chúng. Bạn không muốn năng lượng này rơi vào các bức tường của máy móc.

Vấn đề là các bóng đèn hồng ngoại thông thường sẽ tỏa nhiệt ra mọi hướng, 360 độ. Trong một buồng sản xuất bán dẫn có diện tích hạn chế, điều này gây ra nhiều vấn đề. Các bức tường bên trong buồng sẽ trở thành những “khẩu trang hấp thụ nhiệt”, tạo ra những vùng có nhiệt độ cao, có thể làm hư hỏng các linh kiện hoặc thậm chí gây bỏng cho người vô tình chạm vào những vùng đó.

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Fri, 17 Jul 2026 08:03:41 +0800

Khử nước trên các tấm wafer MEMS bằng tia hồng ngoại: Tại sao phương pháp này vượt trội hơn các lò sấy truyền thống?

Nếu bạn muốn xây dựng một nhà máy sản xuất hiện đại, thông minh, thì bạn không thể tiếp tục sử dụng những lò sấy truyền thống nữa. Chúng quá chậm trong việc khử nước khỏi các tấm wafer MEMS. Để khử nước trên các tấm wafer này, chúng ta sử dụng hệ thống tia hồng ngoại ngắn sóng. Điều quan trọng nhất là tốc độ và thời gian phản ứng – những yếu tố cần thiết khi dây chuyền sản xuất hoạt động với tốc độ cao.

Bộ sưởi wafer tiết kiệm năng lượng

Fri, 17 Jul 2026 07:50:07 +0800

Điều chỉnh hiệu suất làm nóng một cách chính xác trong nhà máy thông minh
Nếu bạn đang xây dựng một nhà máy thông minh cho công nghệ Industry 4.0, chắc hẳn bạn đã nhận ra rằng phương pháp làm nóng truyền thống không còn phù hợp nữa. Các thiết bị sưởi truyền thống hoạt động chậm, và khi bạn cố gắng tạo ra mô hình kỹ thuật số của quy trình sản xuất, việc sử dụng phương pháp làm nóng thông thường là chưa đủ hiệu quả.

Cảm biến nhiệt độ dành cho thiết bị xử lý wafer

Mon, 13 Jul 2026 18:08:57 +0800

Hãy ngừng chờ đợi nữa: Tại sao công nghệ sưởi ấm bằng tia hồng ngoại lại vượt trội hơn phương pháp sưởi ấm bằng khí nóng
Khi lựa chọn thiết bị dùng để xử lý các tấm wafer, bạn thực chất đang quyết định cách truyền năng lượng vào tấm wafer đó. Hầu hết mọi người đều chọn phương pháp sưởi ấm bằng khí nóng – đó là phương pháp tiêu chuẩn. Nhưng vấn đề là khí chỉ đóng vai trò trung gian thôi. Bạn làm nóng khí, rồi hy vọng rằng khí đó sẽ làm nóng tấm wafer. Nhưng quá trình này diễn ra rất chậm.

Cảm biến hồng ngoại chính xác dành cho wafer

Thu, 09 Jul 2026 03:02:47 +0800

Hệ thống sưởi ấm bằng tia hồng ngoại chính xác: Tại sao việc tập trung nhiệt lượng lại quan trọng trong quy trình xử lý wafer?

Đây là sự thật về quy trình xử lý wafer: Việc đưa nhiệt lượng vào đúng vị trí cần thiết – và không để nó lan sang các vị trí khác – chính là yếu tố then chốt.

Chúng tôi thiết kế các hệ thống sưởi ấm bằng tia hồng ngoại với mục tiêu này. Còn phương pháp sưởi ấm truyền thống thì giống như việc dùng ống nước để rót nước vào cốc vậy; bạn sẽ lãng phí năng lượng, và nhiệt lượng sẽ lan ra khắp nơi xung quanh.

Bộ làm nóng wafer hàn không chứa chì

Fri, 26 Jun 2026 05:29:07 +0800

Trên dây chuyền sản xuất, đồng hồ không quan tâm đến việc hiện đang ở ca làm việc nào. Nếu quá trình làm nóng diễn ra không chính xác, thì điều đó sẽ dẫn đến các lỗi như khoảng trống trong lớp hàn, sai lệch vị trí, và giảm tỷ lệ thành phẩm. Bạn cần một thiết bị làm nóng wafer có khả năng kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác – coi nhiệt độ như một giới hạn quan trọng, chứ không phải yếu tố có thể bỏ qua.

Nhiệt độ chính xác cao dành cho việc xử lý wafer bằng tia hồng ngoại

Sun, 21 Jun 2026 06:41:49 +0800

Trong quy trình sản xuất, việc sưởi ấm tấm wafer không phải là một công đoạn đơn giản; đây chính là yếu tố quyết định chất lượng sản phẩm, từng tấm wafer một. Sự thay đổi nhiệt độ chỉ 1°C trong quá trình sưởi ấm cũng có thể ảnh hưởng đến độ chính xác của thông số kỹ thuật, gây ra các khuyết tật trên bề mặt wafer. Chúng tôi đã thiết kế hệ thống sưởi bằng tia hồng ngoại để loại bỏ những biến động này.