ファブの現場では、フォトレジストのベイク処理は単なる温めるだけの作業ではありません。それは、ウェーハごとに歩留まりを決定する重要な要素です。ソフトベイクやハードベイク時の温度が1℃変動するだけで、CD値が変わり、スカムが発生したり、粒子数が悪化したりします。私たちは、このような変動をなくすために、ウェーハ用の赤外線加熱システムを開発しました。
ここが重要なポイントです。 私たちは石英製のエミッターウィンドウを備えた短波長の赤外線を使用しており、ループ型の温度測定装置によって、一度に処理されるすべてのウェーハの温度を±0.1℃以内に保ちます。温度は3秒以内に安定するため、高効率なリソグラフィプロセスにも対応できます。制御精度は0.1℃単位で、ウェーハの特性に合わせて複数点で校正が行われます。
ホットゾーンは、クラス1～100のクリーンルーム環境に適しています。低ガス放出性の材料を使用し、層流風速が確保されており、インサイト計測によって粒子の発生が確実に抑制されています。電源は24V DCで、EMI対策も施されています。また、SECS/GEMインターフェースも備わっているため、他の装置との接続も容易です。
24時間365日、繰り返し使用しても信頼できる加熱が求められます。 当社の赤外線ヒーターは、50,000時間以上の使用でも出力の変動は5％未満です。また、強制冷却なしでも連続して動作可能です。ソフトベイクやハードベイク時も正確な温度が維持されるため、CD値が安定し、欠陥が減少します。迅速な応答により、ウェーハ間の待機時間が短縮され、安定した設定値によって廃棄や再加工が減少します。また、エミッターが必要に応じてだけ加熱されるため、エネルギー消費も削減されます。
実用的な注意点として、エミッターウィンドウはクリーンルーム環境に適したメンテナンスプランが必要です。拭き取りや定期的な点検を行うことで、伝送性能を安定させることができます。設置は簡単ですが、温度制御の精度を保つために、専用の24V電源としっかりとした接地が必要です。また、ツールのSECS/GEMパラメータをホスト装置に合わせることで、ロットや日々、ノードに関係なく再現性の高い結果が得られます。