리소그래피 공정에서는 0.5°C만큼의 미세한 온도 변화라도 마이크로유체 채널의 가장자리를 나노미터 단위로 이동시킬 수 있습니다. 그러한 변화는 생산 효율 저하로 이어집니다. 저희는 그러한 오차를 원천적으로 방지하기 위해 특수한 조명 장치를 개발했습니다. 이를 통해 첫 번째 웨이퍼부터 마지막 웨이퍼까지 포토레지스트의 프로파일이 일정하게 유지됩니다.
기술적으로 중요한 점은 다음과 같습니다.
이 조명 장치는 석영 창 뒤에 위치한 단파 할로겐 소자를 사용하여 빠르고 효율적으로 열을 가합니다. 또한 클로즈드-루프 제어 시스템을 통해 웨이퍼의 온도를 ±0.1°C 내로 일정하게 유지합니다. 열 관리 시스템이 밀폐되어 있기 때문에, 1등급~100등급의 청정실에서도 작동할 수 있으며, 입자 생성도 거의 없습니다. 출력의 반복성도 항상 일정하며, 포토레지스트의 가열 프로파일도 장비 간에 전달될 때 별도의 조정이 필요하지 않습니다. 전력 소모도 공정에 필요한 수준에 맞춰 조절되므로, 열 관리가 용이합니다.
마이크로유체 공정에서 이 장치가 효과적인 이유는, 이러한 장치들은 일관된 채널 크기와 낮은 표면 결함을 요구하기 때문입니다. 이 조명 장치는 그러한 크기를 결정하는 부드러운 가열 및 강력한 가열 과정을 안정화시켜 줍니다. 그 결과, 치수 조절과 측벽 각도도 일정하게 유지됩니다. 그 결과, 재작업이 줄어들고 폐기물도 적어지며, 안정된 열 환경 덕분에 검증 과정도 단축됩니다. 동일한 정밀도는 웨이퍼를 세척한 후 건조시킬 때에도 유용하며, 온도의 안정성을 통해 패턴의 형태가 변형되거나 물자가 손상되는 것을 방지합니다.
몇 가지 실용적인 팁입니다.
이 조명 장치는 기존의 코팅/가열 장비에 쉽게 장착될 수 있습니다. 온도 안정성과 청정실 규정을 유지하기 위해서는 별도의 전력 공급 장치와 적절한 배기 시스템이 필요합니다. 설정값을 조정하는 데는 시간이 별로 걸리지 않습니다. 하지만 포토레지스트의 두께나 기판의 반사율이 변경된다면, ±0.1°C 이내의 반복성을 유지하기 위해 빠른 재조정이 필요합니다.