Trên dây chuyền sản xuất, đồng hồ không quan tâm đến việc hiện đang ở ca làm việc nào. Nếu quá trình làm nóng diễn ra không chính xác, thì điều đó sẽ dẫn đến các lỗi như khoảng trống trong lớp hàn, sai lệch vị trí, và giảm tỷ lệ thành phẩm. Bạn cần một thiết bị làm nóng wafer có khả năng kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác – coi nhiệt độ như một giới hạn quan trọng, chứ không phải yếu tố có thể bỏ qua.
Điều chúng tôi đã tạo ra, và tại sao nó lại quan trọng Chúng tôi thiết kế thiết bị làm nóng wafer này dựa trên nguyên tắc kiểm soát chính xác và lặp lại được. Độ đồng đều về nhiệt độ trên toàn bộ bề mặt wafer được duy trì ở mức ±0,1°C, giúp mỗi chip bắt đầu quá trình sản xuất từ cùng một mức nhiệt độ ban đầu. Hệ thống làm nóng sử dụng công nghệ NIR với khả năng kiểm soát phổ ánh sáng chính xác – mang lại nguồn năng lượng nhanh chóng và sạch sẽ, không gây ra các điểm nóng.
Thiết bị này phù hợp để sử dụng trong môi trường phòng sạch cấp độ 1–100: vật liệu ít phát khí, các mối nối được niêm phong kỹ lưỡng, và bề mặt được xử lý sao cho không tạo ra hạt bụi nào. Thiết bị này có thể hoạt động 24/7, với các linh kiện được thiết kế để chịu được số lần vận hành cao, và hệ thống điều khiển giúp duy trì mức nhiệt độ ổn định ngay cả khi điện áp thay đổi.
Tại sao thiết bị này lại được sử dụng trong quy trình sản xuất wafer Việc làm nóng wafer giúp chuẩn bị môi trường thuận lợi cho các quy trình như in ấn, xử lý lớp hàn, và quy trình hàn. Độ đồng đều về nhiệt độ giúp giảm sai lệch về kích thước giữa các chip, từ đó giúp kiểm soát độ rộng của các đường nối một cách tốt hơn. Việc không tạo ra hạt bụi giúp giảm số lượng sản phẩm bị lỗi, và độ ổn định của nhiệt độ giúp rút ngắn thời gian chuẩn bị giữa các lô sản xuất.
Hành vi năng lượng của thiết bị này rất ổn định: nhiệt độ có thể đạt mức mong muốn một cách nhanh chóng, với độ lệch tối thiểu. Việc kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác giúp giảm số lượng sản phẩm bị lỗi. Đối với đội ngũ kỹ thuật viên và những người mua hàng, điều này có nghĩa là thiết bị hoạt động một cách dự đoán được, với ít sai số hơn, và tỷ lệ thành phẩm cao hơn.
Những điều bạn cần lưu ý khi sử dụng thiết bị này Nếu bạn muốn đảm bảo tính lặp lại của quá trình làm nóng, bạn cần cung cấp cho thiết bị này một nguồn điện riêng và hệ thống nối đất riêng. Việc chia sẻ nguồn điện với các thiết bị có dòng điện lớn sẽ gây ra nhiễu.
Khoảng cách giữa các bộ phận cũng rất quan trọng. Dòng khí và khoảng cách đến các thiết bị khác cũng cần được xem xét kỹ lưỡng. Thiết bị này có thể được tích hợp với các thiết bị xử lý wafer thông thường, nhưng bạn cần có thời gian để điều chỉnh các thông số kỹ thuật và kiểm tra độ đồng đều của nhiệt độ trên toàn bộ các loại wafer.