Perché smettere di utilizzare aria calda? Un modo migliore per asciugare le wafer
Se avete trascorso del tempo in linee di produzione obsolete, conoscete sicuramente questo metodo: si utilizzano sistemi enormi che soffiano aria calda sulle wafer, in attesa che l’acqua evapori. È un sistema semplice, certo… ma estremamente lento.
Il problema è che l’aria non è affatto efficace nel trasferire calore. Bisogna quindi utilizzare molta energia per riscaldare l’intera camera, solo per asciugare uno strato sottile d’acqua sulla superficie delle wafer. È come cercare di asciugare un singolo piatto riscaldando tutta la cucina.
Eliminiamo il “mediatore”
Ecco dove entra in gioco l’irradiazione infrarossa. Invece di riscaldare l’aria e sperare che essa raggiunga le wafer, l’irradiazione infrarossa agisce direttamente sulle molecole d’acqua. Utilizziamo lampade a onde corte per stimolare l’evaporazione quasi istantaneamente. In questo modo, il tempo necessario per asciugare le wafer passa da minuti a secondi.Secondi. Questo cambia completamente il ritmo di lavoro.
Inoltre, non c’è bisogno di preoccuparsi di “zone morte” o pattern di flusso d’aria che lasciano alcune zone umide. L’irradiazione infrarossa fornisce un flusso di energia costante su tutto il substrato. Inoltre, poiché non si utilizza aria calda, non si rischia di spostare polvere e particelle sulla superficie delle wafer.
Più velocità, meno ingombro
Passare all’irradiazione infrarossa non significa soltanto guadagnare tempo: significa anche risparmiare spazio. I sistemi a aria forzata sono ingombranti: richiedono ventilatori enormi, tubazioni lunghe e scambiatori di calore pesanti. Occupano troppo spazio. Al contrario, i sistemi a irradiazione infrarossa sono compatti e possono essere installati facilmente negli spazi già disponibili.
Inoltre, il costo energetico diminuisce: le lampade consumano energia solo quando effettivamente asciugano le wafer. Non è necessario mantenere l’aria calda 24/7.
Attenzione al calore
Devo essere onesto: l’irradiazione infrarossa è molto potente. Se si sbaglia nel regolare l’intensità del calore o se la distanza tra le lampade è troppo ridotta, si può surriscaldare la wafer o danneggiare il fotosensibile presente su di essa. Non si tratta di uno strumento che funziona “da solo”. È necessario un controllo preciso dell’intensità del calore, oltre all’uso di dispositivi che permettano di chiudere rapidamente le lampade per mantenere sotto controllo il calore.
Bisogna anche prestare attenzione alla refrigerazione: se non si tiene conto del calore radiato che non colpisce la wafer, si possono danneggiare i sensori stessi. Richiede un po’ più di precisione nella configurazione, ma i vantaggi in termini di efficienza ne valgono la pena.