
Pourquoi arrêter de gaspiller de l’énergie ? Une meilleure façon de sécher les wafer
Si vous avez déjà travaillé dans des usines de fabrication plus anciennes, vous connaissez bien ce processus : il s’agit d’utiliser de gros systèmes pour souffler de l’air chaud sur les wafer, en espérant que l’eau s’évapore. C’est un système simple, certes. Mais c’est extrêmement lent.
Le problème, c’est que l’air est très médiocre pour transférer la chaleur. Il faut donc consommer beaucoup d’énergie pour chauffer toute la pièce, juste afin de sécher une fine couche d’eau à la surface du wafer. C’est comme essayer de sécher une seule assiette en chauffant toute la cuisine.
Éliminer l’intermédiaire
C’est là que l’infrarouge entre en jeu. Au lieu de chauffer l’air et d’espérer qu’il atteigne le wafer, l’infrarouge agit directement sur les molécules d’eau. Nous utilisons des lampes à infrarouge à ondes courtes pour provoquer l’évaporation presque instantanément. On passe ainsi d’un cycle de séchage qui dure des minutes à un cycle qui ne dure que quelques secondes. Quelques secondes seulement. Cela change complètement le rythme de travail.
De plus, il n’y a plus de risque de zones humides dues à des flux d’air inégaux. L’infrarouge fournit une énergie constante et uniforme sur tout le substrat. Et comme on ne souffle pas d’air, on évite de repousser de la poussière ou des particules sur les wafer propres.
Plus de vitesse, moins de complications
Passer à l’infrarouge, ce n’est pas seulement une question de rapidité ; c’est aussi une question d’espace. Les systèmes à air forcé sont encombrants : ils nécessitent de gros ventilateurs, des conduits interminables et des échangeurs thermiques lourds. Ils prennent beaucoup trop de place. En revanche, un système à infrarouge est compact. C’est un module qui peut être installé facilement dans l’espace disponible.
Vos factures d’électricité vous remercieront également. Les lampes ne consomment de l’énergie que lorsque elles séchent réellement les wafer. Vous n’avez donc pas besoin de maintenir l’air chaud 24/7.
L’inconvénient : respecter la chaleur
Honnêtement, l’infrarouge est très puissant. Si vous ne contrôlez pas bien le temps de séchage ou si vous vous rapprochez trop du wafer, vous risquez de surchauffer le wafer ou de détruire le photo-résistant sensible. Ce n’est pas un outil dont on peut se servir sans réfléchir. Il faut un contrôle précis du PID et des obturateurs qui s’ouvrent rapidement pour limiter la quantité de chaleur délivrée.
Il faut aussi bien gérer la refroidissement. Sinon, les capteurs risquent d’être endommagés par la chaleur rayonnante. Il faut donc être précis dans les paramètres de configuration. Mais les avantages en termes de productivité en valent la peine.