화학물질이 있는 곳에서 IR 램프를 사용할 때는 마치 불과 장난을 치는 것과 같습니다. 주변에는 휘발성 증기들이 날아다니고 있으며, 단 한 번의 스파크나 너무 뜨거운 표면만으로도 작업 공간이 재앙의 현장으로 변할 수 있습니다. 우리는 이러한 상황을 막기 위해 많은 시...

정밀한 적외선 가열: 왜 집중된 열이 웨이퍼 처리에 있어서 그토록 중요한가 웨이퍼 처리의 핵심은 바로 원하는 곳에만 열을 공급하는 것입니다. 다른 곳에는 열이 가지 않도록 하는 것이 중요합니다. 우리는 이러한 목적을 위해 적외선 가열 시스템을 설계합니다. 일반적인 광...

팹에서의 포토레지스트 건조 과정은 단순한 가열 과정이 아닙니다. 이는 웨이퍼 하나하나의 수율을 결정하는 중요한 열 처리 공정입니다. 소프트 베이크나 하드 베이크 시 온도가 1°C만 변동해도 CD 값이 변하고, 이물질이 생기며, 입자 수도 변동합니다. 저희는 이러한 변...