팹에서의 포토레지스트 건조 과정은 단순한 가열 과정이 아닙니다. 이는 웨이퍼 하나하나의 수율을 결정하는 중요한 열 처리 공정입니다. 소프트 베이크나 하드 베이크 시 온도가 1°C만 변동해도 CD 값이 변하고, 이물질이 생기며, 입자 수도 변동합니다. 저희는 이러한 변수들을 제거하기 위해 특별한 IR 가열 시스템을 개발했습니다.
중요한 것은 내부 구조입니다. 저희는 석영 에미터 창을 사용한 짧은 파장의 IR을 활용하며, 클로즈드-루프형 온도 측정 장치를 통해 웨이퍼 전체의 온도를 ±0.1°C 이내로 유지합니다. 온도는 3초 이내에 안정되므로, 긴박한 리소그래피 작업도 지연 없이 진행할 수 있습니다. 제어 정밀도는 0.1°C이며, 다중 지점 교정을 통해 웨이퍼의 프로파일과 일치시킬 수 있습니다.
핫 존은 클래스 1–100급 청정실 환경에 적합합니다. 방출되는 가스가 적고, 계층화된 공기 흐름이 가능하며, 현장 측정을 통해 입자 발생이 없음이 확인됩니다. 전력은 24V DC이며, EMI 방지 기능이 있어서 선로와의 연동도 용이합니다.
24시간 내내, 반복적으로 신뢰할 수 있는 열원이 필요합니다. 저희의 IR 히터는 50,000시간 이상 작동해도 성능 저하가 5% 미만입니다. 강제 냉각 없이도 지속적으로 작동할 수 있습니다. 소프트 베이크와 하드 베이크 모두 정확한 온도에서 이루어지므로 CD 값이 안정되고 결함도 줄어듭니다. 빠른 반응 속도 덕분에 웨이퍼 처리 시간도 단축되며, 안정적인 온도 조절 덕분에 폐기물과 재작업도 줄어듭니다. 에미터가 필요할 때만 작동하기 때문에 에너지 소비도 줄어듭니다.
몇 가지 실용적인 팁입니다. 에미터 창은 청정실 환경에 맞는 유지보수 방법이 필요합니다. 전송 효율을 유지하기 위해 정기적인 청소와 점검이 필요합니다. 설치는 간단하지만, 온도 제어 정확도를 위해 별도의 24V 전원선과 견고한 접지가 필요합니다. 도구의 SECS/GEM 파라미터를 호스트와 일치시키면, 여러 번의 작업이나 다양한 날짜, 공정 단계에서도 일관된 성능을 얻을 수 있습니다.