なぜ半導体製造においてUHP赤外線ランプを採用するのか
正直に言えば、対流式のオーブンはもはや時代遅れに思えてきます。半導体の乾燥や硬化処理の分野では、Ultra High Purity（UHP）赤外線ランプへの移行が進んでいます。
これは単に「無鉛で環境に優しい」という基準を満たすためだけではありません。重要なのは、熱がどのように伝わるかという点です。対流式の場合は、部屋中に熱風を送り込んで乾燥を期待しますが、UHP赤外線ランプは電磁波を利用して直接ウェーハに熱を与えます。
もう、ウェーハを乾燥させるために大量の空気を加熱する必要はありません。
即座に熱が得られるという利点
UHPランプは、高純度の石英製のケースの中にタングステンフィラメントが入っている構造になっています。スイッチを入れると、集中した熱が発生します。つまり、チャンバーが温まるのを待つ必要がありません。これはエネルギーコスト削減に大きく役立ちます。機械の壁や周囲の空気を加熱する必要がないのです。エネルギーを必要な場所に直接投入できるのです。
常に清潔を保つ
無鉛基準を守っている場合、ガスの放出がどれほど問題になるかご存知でしょう。古いヒーターでは、高温になると剥がれ落ちたり、ガスを放出したりする合金やコーティングが使われていることがあります。これはウェーハの処理においては大きな問題です。
私たちは、不純物がほとんど含まれていない合成石英を使用しています。そのため、常に清潔を保つことができます。燃焼もなく、有害な溶剤もなく、炭素排出もありません。本当に清潔です。
注意点（工学的な現実）
もちろん、このランプをそのまま使えるわけではありません。非常に強力な熱を発生させるため、適切な冷却システムが必要です。古い機械にそのまま取り付けることはできません。冷却システムをしっかり設計しなければ、マウントブラケットが変形したり、ランプソケットが壊れたりする可能性があります。バランスを取る必要があります。
また、配線についても注意が必要です。高耐熱性の遮蔽ケーブルを使用しましょう。EMIによって敏感なセンサーが影響を受けないようにする必要があります。小さな詳細かもしれませんが、将来のトラブルを防ぐためには重要です。